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1. (WO2018179492) APPAREIL DE PRODUCTION DE PRODUIT CHIMIQUE LIQUIDE DILUÉ POUVANT RÉGULER LE pH ET LE POTENTIEL D'OXYDO-RÉDUCTION
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N° de publication : WO/2018/179492 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/032790
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 12.09.2017
CIB :
C02F 1/66 (2006.01) ,B01D 61/00 (2006.01) ,C02F 1/74 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
02
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
F
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1
Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
66
par neutralisation; Ajustage du pH
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
D
SÉPARATION
61
Procédés de séparation utilisant des membranes semi-perméables, p.ex. dialyse, osmose ou ultrafiltration; Appareils, accessoires ou opérations auxiliaires, spécialement adaptés à cet effet
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
02
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
F
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1
Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
72
par oxydation
74
au moyen de l'air
Déposants :
栗田工業株式会社 KURITA WATER INDUSTRIES LTD. [JP/JP]; 東京都中野区中野四丁目10番1号 10-1, Nakano 4-chome, Nakano-ku, Tokyo 1640001, JP
Inventeurs :
藤村 侑 FUJIMURA Yu; JP
顔 暢子 GAN Nobuko; JP
Mandataire :
早川 裕司 HAYAKAWA Yuzi; JP
村雨 圭介 MURASAME Keisuke; JP
Données relatives à la priorité :
2017-06860130.03.2017JP
Titre (EN) DILUTED CHEMICAL LIQUID PRODUCTION APPARATUS CAPABLE OF CONTROLLING pH AND OXIDATION-REDUCTION POTENTIAL
(FR) APPAREIL DE PRODUCTION DE PRODUIT CHIMIQUE LIQUIDE DILUÉ POUVANT RÉGULER LE pH ET LE POTENTIEL D'OXYDO-RÉDUCTION
(JA) pH及び酸化還元電位を制御可能な希釈薬液の製造装置
Abrégé :
(EN) This diluted chemical liquid production apparatus is provided with, sequentially on a supply line 1 for ultrapure water W, a platinum group metal-supporting resin column 2, a membrane-type degassing device 3, and a gas-dissolving membrane device 4, wherein a pH adjusting agent-injecting device 5A and an oxidation-reduction potential adjusting agent-injecting device 5B are provided between the platinum group metal-supporting resin column 2 and the membrane-type degassing device 3. An inert gas source 6 is coupled to a gas-phase side of the membrane-type degassing device 3, an inert gas source 7 is coupled to a gas-phase side of the gas-dissolving membrane device 4, and a discharge line 8 is connected to the gas-dissolving membrane device 4. A pH meter 10A and an ORP meter 10B are provided to the discharge line 8. This diluted chemical liquid production apparatus can control the pH and the oxidation-reduction potential.
(FR) L'invention concerne un appareil de production de produit chimique liquide dilué qui comporte, successivement sur une conduite d'alimentation (1) en eau ultrapure W, une colonne en résine (2) de support de métal du groupe du platine, un dispositif de dégazage (3) de type à membrane, et un dispositif à membrane dissolvant du gaz (4), un dispositif d'injection d'agent d'ajustement de pH (5A) et un dispositif d'injection d'agent d'ajustement de potentiel d'oxydo-réduction (5B) étant disposés entre la colonne en résine (2) de support de métal du groupe du platine et le dispositif de dégazage (3) de type à membrane. Une source de gaz inerte (6) est accouplée à un côté phase gazeuse du dispositif de dégazage (3) de type à membrane, une source de gaz inerte (7) est accouplée à un côté phase gazeuse dispositif à membrane dissolvant du gaz (4), et une conduite d'évacuation (8) est reliée au dispositif à membrane dissolvant du gaz (4). Un pHmètre (10A) et un dispositif de mesure de potentiel d'oxydo-réduction (ORP) (10B) sont prévus sur la conduite d'évacuation (8). Cet appareil de production de produit chimique liquide dilué peut réguler le pH et le potentiel d'oxydo-réduction.
(JA) 希釈薬液の製造装置は、超純水Wの供給ライン1に白金族金属担持樹脂カラム2と、膜式脱気装置3と、ガス溶解膜装置4とを順次備え、白金族金属担持樹脂カラム2と膜式脱気装置3との間にpH調整剤注入装置5Aと酸化還元電位調整剤注入装置5Bとを設けた構成を有する。膜式脱気装置3の気相側には不活性ガス源6が接続しているとともに、ガス溶解膜装置4の気相側にも不活性ガス源7が接続していて、ガス溶解膜装置4には排出ライン8が連通している。この排出ライン8には、pH計10AとORP計10Bとが設けられている。かかる希釈薬液の製造装置によれば、pH及び酸化還元電位を制御可能である。
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Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)