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1. (WO2018177478) PROCÉDÉ POUR REVÊTIR UN SUBSTRAT AU MOYEN DE GRAPHÈNE

Pub. No.:    WO/2018/177478    International Application No.:    PCT/DE2018/100283
Publication Date: Fri Oct 05 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Mar 28 01:59:59 CEST 2018
IPC: C01B 32/194
C23C 24/00
Applicants: LEIBNIZ-INSTITUT FÜR PHOTONISCHE TECHNOLOGIEN E.V.
Inventors: JIA, Guobin
PLENTZ, Jonathan
ANDRÄ, Gudrun
Title: PROCÉDÉ POUR REVÊTIR UN SUBSTRAT AU MOYEN DE GRAPHÈNE
Abstract:
L'invention concerne un procédé pour revêtir des substrats au moyen de graphène. L'objectif de cette invention est de créer une possibilité pour revêtir, au moyen de graphène, des substrats dont les surfaces à revêtir peuvent être formées de manière bidimensionnelle ou tridimensionnelle. Aucunes exigences particulières concernant la mouillabilité des surfaces desdits substrats ne doivent être remplies. L'objectif de cette invention est atteint au moyen d'un procédé pour revêtir un substrat (3) au moyen de graphène, comprenant les étapes de procédé consistant : a) à disposer le substrat (3) à revêtir dans un bain-marie, sous la surface de l'eau ; b) à disposer des flocons de graphène à la surface de l'eau, de manière à former une couche de flocons de graphène (2) continue distincte flottant à la surface de l'eau, c) à ajouter des molécules qui flottent à la surface de l'eau, ce qui entraîne la compression des flocons de graphène de façon à former une couche (6) comprimée de manière dense, d) à agencer le substrat (3) à revêtir sous la couche (6) comprimée de manière dense, et e) à abaisser le niveau de l'eau et/ou à élever le substrat (3) pour revêtir ce substrat (3) au moyen de la couche (6) comprimée de manière dense.