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1. (WO2018177007) ACIER AU SILICIUM À GRAINS ORIENTÉS GRAVÉ AU LASER RÉSISTANT AU RECUIT DE DÉTENTE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/177007 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/074023
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 24.01.2018
CIB :
C21D 8/12 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
21
MÉTALLURGIE DU FER
D
MODIFICATION DE LA STRUCTURE PHYSIQUE DES MÉTAUX FERREUX; DISPOSITIFS GÉNÉRAUX POUR LE TRAITEMENT THERMIQUE DES MÉTAUX FERREUX OU NON FERREUX, OU DES ALLIAGES; PROCÉDÉS POUR RENDRE LE MÉTAL MALLÉABLE PAR DÉCARBURATION, REVENU OU AUTRES TRAITEMENTS
8
Modification des propriétés physiques par déformation en combinaison avec, ou suivie par, un traitement thermique
12
pendant la fabrication d'objets à propriétés électromagnétiques particulières
Déposants : BAOSHAN IRON & STEEL CO., LTD.[CN/CN]; 885 Fujin Road, Baoshan District Shanghai 201900, CN
Inventeurs : ZHAO, Zipeng; CN
LI, Guobao; CN
YANG, Yongjie; CN
WU, Meihong; CN
MA, Changsong; CN
JI, Yaming; CN
LING, Chen; CN
XIE, Weiyong; CN
GUO, Jianguo; CN
Mandataire : WATSON & BAND INTELLECTUAL PROPERTY AGENT LTD.; 27th Fl., The Center, 989 Changle Road Shanghai 200031, CN
Données relatives à la priorité :
201710187566.327.03.2017CN
Titre (EN) LASER-ETCHED GRAIN-ORIENTED SILICON STEEL RESISTANT TO STRESS RELIEF/ANNEALING AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) ACIER AU SILICIUM À GRAINS ORIENTÉS GRAVÉ AU LASER RÉSISTANT AU RECUIT DE DÉTENTE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(ZH) 一种耐消除应力退火的激光刻痕取向硅钢及其制造方法。
Abrégé :
(EN) A laser-etched grain-oriented silicon steel resistant to stress relief/annealing and a manufacturing method therefor. Parallel line-shaped grooves (20) are formed on one or both sides of grain-oriented silicon steel (10) by laser etching. The line-shaped grooves (20) are perpendicular to, or at an angle to, a rolling direction of a steel plate. A maximum height of edge protrusions of the line-shaped grooves (20) does not exceed 5 μm, and a maximum height of spatter in etch-free regions between adjacent line-shaped grooves (20) does not exceed 5 μm, and the proportion of an area occupied by spatter in the vicinity of the line-shaped grooves (20) does not exceed 5%. The steel has low manufacturing costs, and the product etching effect is retained during a stress relief/annealing process, suitable for manufacturing of wound core transformers.
(FR) L'invention concerne un acier au silicium à grains orientés, gravé au laser, résistant au recuit de détente et son procédé de fabrication. Des rainures parallèles en forme de ligne (20) sont formées d'un côté ou des deux côtés de l'acier au silicium à grains orientés (10) par gravure au laser. Les rainures en forme de ligne (20) sont perpendiculaires à une direction de laminage d'une tôle d'acier, ou selon un angle par rapport à la direction de laminage de la tôle d'acier. Une hauteur maximale des saillies de bord des rainures en forme de ligne (20) ne dépasse pas 5 µm, et une hauteur maximale des projections dans les régions exemptes de gravure entre des rainures en forme de ligne (20) adjacentes ne dépasse pas 5 µm, et la proportion d'une zone occupée par des projections au voisinage des rainures en forme de ligne (20) ne dépasse pas 5 %. L'acier présente de faibles coûts de fabrication, et l'effet de gravure de produit est conservé pendant un processus de recuit de détente, approprié pour la fabrication de transformateurs à noyau enroulé.
(ZH) 一种耐消除应力退火的激光刻痕取向硅钢板及其制造方法,采用激光刻痕方式在取向硅钢(10)的单面或双面刻痕形成平行线状刻槽(20),该线状刻槽(20)与钢板轧制方向垂直或成一角度;线状刻槽(20)边缘凸起最大高度不超过5μm,相邻线状刻槽(20)之间的无刻痕区域飞溅物最大高度不超过5μm,且线状刻槽(20)附近区域飞溅物所占面积比例不超过5%。其制造成本低,成品刻痕效果在消除应力退火过程中不消失,适用于卷绕铁芯变压器的制造。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)