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1. (WO2018176769) STRUCTURE STRATIFIÉE ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
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N° de publication : WO/2018/176769 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/103979
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 28.09.2017
CIB :
H01L 27/12 (2006.01) ,H01L 21/77 (2017.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27
Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
02
comprenant des composants semi-conducteurs spécialement adaptés pour le redressement, l'amplification, la génération d'oscillations ou la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
12
le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
70
Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci; Fabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci
77
Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.[CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
HEFEI BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.[CN/CN]; No. 2177 Tonglingbei Road Hefei, Anhui 230012, CN
Inventeurs : YUAN, Miao; CN
ZHAO, Na; CN
Mandataire : ZHONGZI LAW OFFICE; 7F, New Era Building, 26 Pinganli Xidajie, Xicheng District Beijing 100034, CN
Données relatives à la priorité :
201710188507.827.03.2017CN
Titre (EN) LAMINATED STRUCTURE AND PREPARATION METHOD THEREFOR
(FR) STRUCTURE STRATIFIÉE ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
(ZH) 叠层结构及其制备方法
Abrégé :
(EN) Disclosed are a laminated structure (10) and a preparation method therefor. The laminated structure (10) comprises: a substrate (1); at least one material layer (6) located above the substrate (1); a via hole penetrating through at least a part of the at least one material layer (6), wherein the via hole has a step-shaped side surface; and another material layer (7) conformally covering the side surface of the via hole. The ratio of the thickness of the at least one material layer (6) to the thickness of the other material layer (7) is greater than 10.
(FR) L'invention concerne une structure stratifiée (10) et son procédé de préparation. La structure stratifiée (10) comprend : un substrat (1) ; au moins une couche de matériau (6) située sur le substrat (1) ; un trou d'interconnexion pénétrant dans au moins une partie de ladite couche de matériau (6), le trou d'interconnexion présentant une surface latérale en forme d'escalier ; et une autre couche de matériau (7) recouvrant la surface latérale du trou d'interconnexion en épousant cette dernière. Le rapport de l'épaisseur de ladite couche de matériau (6) à l'épaisseur de l'autre couche de matériau (7) est supérieur à 10.
(ZH) 一种叠层结构(10)及其制备方法。所述叠层结构(10)包括:基板(1);位于所述基板(1)上的至少一个材料层(6);穿过所述至少一个材料层(6)的至少一部分的过孔,其中,所述过孔具有台阶状的侧表面;以及保形覆盖所述过孔的侧表面的另一材料层(7)。所述至少一个材料层(6)的厚度与所述另一材料层(7)的厚度的比率大于10。
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Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)