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1. (WO2018166634) PROCÉDÉS DE MANIPULATION D'UN DISPOSITIF DE MASQUAGE DANS UN SYSTÈME SOUS VIDE, APPAREIL DE MANIPULATION DE MASQUE ET SYSTÈME SOUS VIDE
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N° de publication : WO/2018/166634 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/058826
Date de publication : 20.09.2018 Date de dépôt international : 12.04.2017
CIB :
H01L 21/677 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
677
pour le transport, p.ex. entre différents postes de travail
Déposants :
ZANG, Sebastian Gunther [DE/DE]; DE (US)
SAUER, Andreas [DE/DE]; DE (US)
APPLIED MATERIALS,INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
ZANG, Sebastian Gunther; DE
SAUER, Andreas; DE
Mandataire :
ZIMMERMANN & PARTNER PATENTANWÄLTE MBB; Josephspitalstr. 15 80331 München, DE
Données relatives à la priorité :
PCT/EP2017/05636817.03.2017EP
Titre (EN) METHODS OF HANDLING A MASK DEVICE IN A VACUUM SYSTEM, MASK HANDLING APPARATUS, AND VACUUM SYSTEM
(FR) PROCÉDÉS DE MANIPULATION D'UN DISPOSITIF DE MASQUAGE DANS UN SYSTÈME SOUS VIDE, APPAREIL DE MANIPULATION DE MASQUE ET SYSTÈME SOUS VIDE
Abrégé :
(EN) A method of handling a mask device configured for masked deposition on a substrate is described. The method includes: loading (Y1) a mask device (10) into a vacuum system (100); attaching (Y3) the mask device (10) to a mask carrier (15) in the vacuum system; and transporting the mask carrier (15) that holds the mask device (10) in a non-horizontal orientation along a transport path in the vacuum system (100). A further mask handling method includes: transporting a mask carrier (15) that holds a mask device (10) in a non- horizontal orientation (V) along a transport path in a vacuum system (100); detaching (X1) the mask device (10) from the mask carrier (15) in the vacuum system (100); and unloading (X3) the mask device (10) from the vacuum system (100). According to a further aspect, a mask handling assembly (20) for handling a mask device as well as a vacuum system with at least one mask handling assembly are described.
(FR) L'invention concerne un procédé de manipulation d'un dispositif de masquage configuré pour un dépôt masqué sur un substrat. Le procédé consiste à : charger (Y1) un dispositif de masquage (10) dans un système sous vide (100); fixer (Y3) le dispositif de masquage (10) à un support de masque (15) dans le système sous vide; et transporter le support de masque (15) qui maintient le dispositif de masquage (10) dans une orientation non horizontale le long d'un trajet de transport dans le système sous vide (100). Un autre procédé de manipulation de masque consiste à : transporter un support de masque (15) qui maintient un dispositif de masquage (10) dans une orientation non horizontale (V) le long d'un trajet de transport dans un système sous vide (100); détacher (X1) le dispositif de masquage (10) du support de masque (15) dans le système sous vide (100); et décharger (X3) le dispositif de masquage (10) du système sous vide (100). Selon un autre aspect, l'invention concerne un ensemble de manipulation de masque (20) pour manipuler un dispositif de masquage ainsi qu'un système sous vide avec au moins un ensemble de manipulation de masque.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)