Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018166444) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE PHOTOGRAVURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/166444 N° de la demande internationale : PCT/CN2018/078829
Date de publication : 20.09.2018 Date de dépôt international : 13.03.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9
Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
Déposants :
上海微电子装备(集团)股份有限公司 SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT(GROUP) CO., LTD. [CN/CN]; 中国上海市 张江高科技园区张东路1525号 1525 Zhangdong Road, Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203, CN
Inventeurs :
周畅 ZHOU, Chang; CN
杨志勇 YANG, Zhiyong; CN
马琳琳 MA, Linlin; CN
Mandataire :
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; 中国上海市 长宁区天山西路789号1幢341室 Room 341, Building 1 789 West Tianshan Road, Changning District Shanghai 200335, CN
Données relatives à la priorité :
201710154356.415.03.2017CN
Titre (EN) PHOTOETCHING APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE PHOTOGRAVURE
(ZH) 光刻装置及方法
Abrégé :
(EN) Disclosed are a photoetching apparatus and method. The photoetching apparatus comprises at least two sets of exposure apparatus and one set of substrate apparatus, wherein the substrate apparatus comprises a substrate table (10) and a substrate (7), wherein the substrate table (10) carries the substrate (7); and the at least two sets of exposure apparatus are symmetrically distributed, in the direction of exposure scanning, above the substrate (7), and form two exposure fields on the substrate (7) to expose the substrate (7) in the exposure fields.
(FR) L'invention concerne un appareil et un procédé de photogravure. L'appareil de photogravure comprend au moins deux ensembles d'appareil d'exposition et un ensemble d'appareil de substrat, l'appareil de substrat comprenant une table de substrat (10) et un substrat (7), la table de substrat (10) portant le substrat (7) ; et lesdits ensembles d'appareil d'exposition sont répartis symétriquement, dans la direction de balayage d'exposition, au-dessus du substrat (7), et forment deux champs d'exposition sur le substrat (7) pour exposer le substrat (7) dans les champs d'exposition.
(ZH) 一种光刻装置及方法,光刻装置包括至少两套曝光装置和一套基板装置,其中:基板装置包括一基板台(10)和一基板(7),基板台(10)承载基板(7);至少两套曝光装置沿曝光扫描方向对称分布在基板(7)上方,同时在基板(7)上形成两个曝光场,对曝光场内基板(7)进行曝光。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)