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1. (WO2018166027) STRUCTURE DE PHOTOMASQUE ET SUBSTRAT MATRICIEL DE TYPE COA

Pub. No.:    WO/2018/166027    International Application No.:    PCT/CN2017/080735
Publication Date: Fri Sep 21 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Apr 18 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/20
H01L 27/12
Applicants: WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.
武汉华星光电技术有限公司
Inventors: SUN, Tao
孙涛
Title: STRUCTURE DE PHOTOMASQUE ET SUBSTRAT MATRICIEL DE TYPE COA
Abstract:
L'invention concerne une structure de photomasque et un substrat matriciel de type COA. La structure de photomasque comprend : une partie de nuançage de lumière centrale (1) ; une partie de nuançage de lumière périphérique (3) entourant la partie de nuançage de lumière centrale et façonnée pour se conformer au profil extérieur de la partie de nuançage de lumière centrale ; et une fente annulaire évidée (5) prise en sandwich entre la partie de nuançage de lumière périphérique et la partie de nuançage de lumière centrale. Lors du passage à travers la fente évidée, une lumière d'exposition est diffractée pour produire une lumière courbée et diffusée de contre-propagation et un changement progressif d'intensité d'énergie ; et le gradient de trous d'interconnexion du film coloré préparé au final peut être réduit lorsqu'une photorésistance négative est utilisée conjointement, ce qui améliore la qualité de connexion électrique entre une électrode de pixel et une ligne de signal d'un matériau métallique et évite un effet d'affichage indésirable.