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1. (WO2018165610) DÉCOMPOSITION DE PRÉCURSEURS CONTENANT DU SILICIUM SUR DES MATÉRIAUX D'ÉCHAFAUDAGE POREUX
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N° de publication : WO/2018/165610 N° de la demande internationale : PCT/US2018/021843
Date de publication : 13.09.2018 Date de dépôt international : 09.03.2018
CIB :
H01G 11/24 (2013.01) ,C01B 32/05 (2017.01) ,C01B 32/30 (2017.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
G
CONDENSATEURS; CONDENSATEURS, REDRESSEURS, DÉTECTEURS, DISPOSITIFS DE COMMUTATION, DISPOSITIFS PHOTOSENSIBLES OU SENSIBLES À LA TEMPÉRATURE, DU TYPE ÉLECTROLYTIQUE
11
Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants
22
Électrodes
24
caractérisées par les propriétés structurelles des matériaux composant les électrodes ou inclus dans les électrodes, p.ex. forme, surface ou porosité; caractérisées par les propriétés structurelles des poudres ou particules utilisées à cet effet
[IPC code unknown for C01B 32/05][IPC code unknown for C01B 32/30]
Déposants :
GROUP 14 TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 100 N.E. Northlake Way, Suite 300 Seattle, Washington 98105, US
Inventeurs :
COSTANTINO, Henry R.; US
FEAVER, Aaron M.; US
SAKSHAUG, Avery J.; US
TIMMONS, Christopher; US
Mandataire :
HARWOOD, Eric, A.; US
OBEIDAT, Baha, A.; US
KUMABE, Blake, K.; US
SOLTANI, Bobby, B.; US
SARGEANT, Brooke; US
QUIST, Brooke, W.; US
ROTH, Carol, J.; US
EIDT, Chandra, E.; US
O'BRIEN, Daniel; US
CARLSON, David, V.; US
STARK, Duncan; US
TARLETON, E., Russell; US
SUN, Eileen, S.; US
ABRAMONTE, Frank; US
HAN, Hai; US
TALBERT, Hayley, J.; US
CARTER, James, J.; US
WHITE, James, A. D.; US
BARRETT, Jared, M.; US
PEPE, Jeffrey, C.; US
DANLEY, Jeffrey, E.; US
SAKOI, Jeffrey, M.; US
BAUNACH, Jeremiah, J.; US
KARLEN, John, R.; US
MORGAN, John, A.; US
WAKELEY, John, J.; US
COE, Justin, E.; US
HENCKEL, Karen, M.; US
HEFTER, Karl, A.; US
HERMANNS, Karl, R.; US
MORGAN, Kevan, L.; US
COSTANZA, Kevin, S.; US
LINFORD, Lorraine; US
COOPER, Michael, P.; US
RUSYN, Paul; US
LIN, Qing; US
HALLER, Rachel, A.; US
IANNUCCI, Robert; US
KOVELMAN, Robert, L.; US
WEBB, Samuel, E.; US
LEEK, Shoko, I.; US
ROSENMAN, Stephen, J.; US
ABEDI, Syed; US
SATAGAJ, Thomas, J.; US
BOLLER, Timothy, L.; US
LIGON, Toby, J.; US
FERRON, William, O., Jr.; US
Données relatives à la priorité :
62/469,42409.03.2017US
Titre (EN) DECOMPOSITION OF SILICON-CONTAINING PRECURSORS ON POROUS SCAFFOLD MATERIALS
(FR) DÉCOMPOSITION DE PRÉCURSEURS CONTENANT DU SILICIUM SUR DES MATÉRIAUX D'ÉCHAFAUDAGE POREUX
Abrégé :
(EN) Composites of silicon and various porous scaffold materials, such as carbon material comprising micro-, meso- and/or macropores, and methods for manufacturing the same are provided. The compositions find utility in various applications, including electrical energy storage electrodes and devices comprising the same.
(FR) L'invention concerne des composites de silicium et divers matériaux d'échafaudage poreux, notamment un matériau de carbone comprenant des micropores, des mésopores et/ou des macropores; et des procédés de production de ceux-ci. Les compositions de l'invention sont utiles dans diverses applications, notamment des électrodes de stockage d'énergie électrique et des dispositifs comprenant celles-ci.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)