Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2018165329) APPAREIL DE DÉPÔT ÉLECTROLYTIQUE ET PROCÉDÉS UTILISANT UNE COMMANDE INDÉPENDANTE DE L'ÉLECTROLYTE UTILISÉ

Pub. No.:    WO/2018/165329    International Application No.:    PCT/US2018/021387
Publication Date: Fri Sep 14 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Mar 08 00:59:59 CET 2018
IPC: C25D 5/08
C25D 17/00
C25D 17/06
C25D 17/02
C25D 7/12
Applicants: LAM RESEARCH CORPORATION
Inventors: GRAHAM, Gabriel Hay
BUCKALEW, Bryan L.
CHUA, Lee Peng
RASH, Robert
FORTNER, James Isaac
BERKE, Aaron
Title: APPAREIL DE DÉPÔT ÉLECTROLYTIQUE ET PROCÉDÉS UTILISANT UNE COMMANDE INDÉPENDANTE DE L'ÉLECTROLYTE UTILISÉ
Abstract:
L'invention concerne des procédés et des appareils de placage électrolytique de substrats. Dans certains cas, un élément à résistance ionique est positionné à proximité du substrat, ce qui crée un collecteur à écoulement transversal entre l'élément à résistance ionique et le substrat. Pendant le placage, du fluide peut entrer dans le collecteur à écoulement transversal en direction du haut à travers les canaux de l'élément à résistance ionique, et (facultativement) latéralement à travers une entrée latérale à écoulement transversal. Les trajets d'écoulement se combinent dans le collecteur à écoulement transversal et sortent au niveau de la sortie à écoulement transversal, qui peut être positionnée à l'opposé de l'entrée à écoulement transversal. Dans certains modes de réalisation, l'élément à résistance ionique peut comprendre deux régions d'écoulement ou plus, l'écoulement à travers chaque région d'écoulement pouvant être commandé de façon indépendante. Dans ces modes de réalisation ou d'autres modes de réalisation, un jet d'électrolyte peut être inclus pour amener de l'électrolyte supplémentaire vers le substrat au niveau d'un ou plusieurs emplacements radiaux particuliers pendant le placage. Dans certains modes de réalisation, l'élément à résistance ionique peut être omis.