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1. (WO2018164115) COMPOSITION D'AGENT NETTOYANT LIQUIDE POUR SURFACES DURES
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N° de publication : WO/2018/164115 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/008559
Date de publication : 13.09.2018 Date de dépôt international : 06.03.2018
CIB :
C11D 17/08 (2006.01) ,C11D 1/88 (2006.01) ,C11D 3/20 (2006.01) ,C11D 3/36 (2006.01) ,C11D 3/43 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
17
Détergents ou savons caractérisés par leur forme ou leurs propriétés physiques
08
Savon liquide; en capsules
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
1
Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifs; Emploi de ces composés comme détergents
88
Ampholytes; Composés électriquement neutres
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3
Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
16
Composés organiques
20
contenant de l'oxygène
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3
Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
16
Composés organiques
36
contenant du phosphore
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3
Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
43
Solvants
Déposants :
花王株式会社 KAO CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋茅場町一丁目14番10号 14-10, Nihonbashi-Kayabacho 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038210, JP
Inventeurs :
吉川将士 YOSHIKAWA Masashi; JP
Mandataire :
古谷聡 FURUYA Satoshi; JP
Données relatives à la priorité :
2017-04560110.03.2017JP
Titre (EN) LIQUID CLEANING AGENT COMPOSITION FOR HARD SURFACES
(FR) COMPOSITION D'AGENT NETTOYANT LIQUIDE POUR SURFACES DURES
(JA) 硬質表面用液体洗浄剤組成物
Abrégé :
(EN) The liquid cleaning agent composition for hard surfaces according to the present invention contains (a) 0.2-10 mass% of a phosphonic acid chelating agent, (b) 0-10 mass% of a chelating agent other than (a), (c) 1 mass% or more of a glycol solvent, (d) an amphoteric surfactant, and water, wherein the mass ratio of: anionic surfactant/[(a)+(b)] is 0.30 or less, and the pH of the liquid cleaning agent composition is 5.8-7.5 at 25ºC.
(FR) L'invention concerne une composition d'agent nettoyant liquide pour surfaces dures qui contient (a) 0,2 à 10 % en masse d'un agent chélatant d'acide phosphonique, (b) 0 à 10 % en masse d'un agent chélatant différent de (a), (c) 1 % en masse ou plus d'un solvant de type glycol, (d) un tensioactif amphotère, et de l'eau, le rapport massique tensioactif anionique/[(a) + (b)] étant inférieur ou égal à 0,30, et le pH de la composition d'agent nettoyant liquide étant compris entre 5,8 à 7,5 et 25 °C.
(JA) 本発明は、(a)ホスホン酸系キレート剤0.2質量%以上10質量%以下、(b)(a)以外のキレート剤0質量%以上10質量%以下、(c)グリコール系溶剤1質量%以上、(d)両性界面活性剤、及び水を含有し、アニオン性界面活性剤/[(a)+(b)]の質量比が0.30以下であり、25℃におけるpHが5.8以上7.5以下である、硬質表面用液体洗浄剤組成物である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)