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1. (WO2018164087) DISPOSITIF SERVANT À DESSINER DES MOTIFS ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE MOTIFS

Pub. No.:    WO/2018/164087    International Application No.:    PCT/JP2018/008450
Publication Date: Fri Sep 14 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Mar 07 00:59:59 CET 2018
IPC: G03F 7/24
G03F 7/20
Applicants: NIKON CORPORATION
株式会社ニコン
Inventors: KATO Masaki
加藤正紀
NAKAYAMA Shuichi
中山修一
Title: DISPOSITIF SERVANT À DESSINER DES MOTIFS ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE MOTIFS
Abstract:
Dans ce dispositif servant à dessiner des motifs, une pluralité d'unités de dessin (Un) qui balayent un faisceau (LB) provenant d'un dispositif de source de lumière (LS) sur un substrat (P) sont fournies avec une relation d'agencement prédéfinie et un motif est dessiné sur le substrat (P) par chacune des unités de dessin (Un). Le dispositif de dessin de motifs est pourvu de : une pluralité d'éléments de sélection optique (OSn) qui sont disposés de façon à fournir sélectivement le faisceau provenant du dispositif de source de lumière (LS) à une quelconque unité de la pluralité d'unités de dessin (Un), de telle sorte que le faisceau (LB) provenant du dispositif de source de lumière (LS) passe séquentiellement à travers celui-ci, et qui sont destinés à viser un faisceau de diffraction principal (LBn) formé par diffraction du faisceau (LB) avec une commande électrique, vers les unités de dessin (Un) ; des systèmes optiques de relais (Ga, Gb) qui établissent une relation conjuguée entre un élément de sélection optique amont (OS1) et un élément de sélection optique aval (OS2) parmi la pluralité d'éléments de sélection optique (OSn) le long du trajet de lumière du faisceau (LB) ; et des éléments d'inhibition optique (IMn') qui sont inclinés par rapport au faisceau de diffraction principal (LBn) et qui inhibent l'incidence, vers l'élément de sélection optique aval (OS2), d'un faisceau de sous-diffraction (LBn') généré à partir de l'élément de sélection optique amont (OS1).