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1. (WO2018163861) CIBLE DE PULVÉRISATION EN ALLIAGE Cu-Ni ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
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N° de publication : WO/2018/163861 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/006685
Date de publication : 13.09.2018 Date de dépôt international : 23.02.2018
CIB :
C23C 14/34 (2006.01) ,C22C 9/06 (2006.01) ,C22C 19/03 (2006.01) ,C22F 1/00 (2006.01) ,C22F 1/10 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
34
Pulvérisation cathodique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
22
MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
C
ALLIAGES
9
Alliages à base de cuivre
06
avec le nickel ou le cobalt comme second constituant majeur
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
22
MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
C
ALLIAGES
19
Alliages à base de nickel ou de cobalt, seuls ou ensemble
03
à base de nickel
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
22
MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
F
MODIFICATION DE LA STRUCTURE PHYSIQUE DES MÉTAUX OU ALLIAGES NON FERREUX
1
Modification de la structure physique des métaux ou alliages non ferreux par traitement thermique ou par travail à chaud ou à froid
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
22
MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
F
MODIFICATION DE LA STRUCTURE PHYSIQUE DES MÉTAUX OU ALLIAGES NON FERREUX
1
Modification de la structure physique des métaux ou alliages non ferreux par traitement thermique ou par travail à chaud ou à froid
10
du nickel ou du cobalt ou de leurs alliages
Déposants :
三菱マテリアル株式会社 MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目3番2号 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117, JP
Inventeurs :
小見山 昌三 KOMIYAMA Shozo; JP
Mandataire :
松沼 泰史 MATSUNUMA Yasushi; JP
寺本 光生 TERAMOTO Mitsuo; JP
細川 文広 HOSOKAWA Fumihiro; JP
大浪 一徳 ONAMI Kazunori; JP
Données relatives à la priorité :
2017-04216206.03.2017JP
2017-24110315.12.2017JP
Titre (EN) Cu-Ni ALLOY SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION EN ALLIAGE Cu-Ni ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) Cu-Ni合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
Abrégé :
(EN) This Cu-Ni alloy sputtering target has a composition such that: Ni is contained in the range of 16 mass% to 55 mass%; the hydrogen content is less than 5 mass ppm, the oxygen content is 500 mass ppm or less, and the carbon content is 500 mass ppm or less; and the balance is Cu and unavoidable impurities. The number of voids with a maximum diameter of at least 2 µm is not more than 1 per 1 mm2 region in the sputtering surface.
(FR) Cette cible de pulvérisation en alliage Cu-Ni a une composition telle que : Ni est contenu dans la plage de 16 % en masse à 55 % en masse; la teneur en hydrogène est inférieure à 5 ppm en masse, la teneur en oxygène est de 500 ppm en masse ou moins, et la teneur en carbone est de 500 ppm en masse ou moins; et le reste est du Cu et des impuretés inévitables. Le nombre de vides ayant un diamètre maximal supérieur ou égal à 2 µm est inférieur ou égal à 1 par zone de 1 mm2 dans la surface de pulvérisation.
(JA) このCu-Ni合金スパッタリングターゲットは、Niを16質量%以上55質量%以下の範囲で含有し、水素の含有量が5質量ppm未満、酸素の含有量が500質量ppm以下、炭素の含有量が500質量ppm以下であり、残部がCuおよび不可避不純物からなる組成を有し、最大径が2μm以上のボイドの数が、スパッタ面内の1mmの領域あたり1個以下である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)