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1. (WO2018163850) PROCÉDÉ D'INSPECTION DE SURFACE ENVERS DE TRANCHE ÉPITAXIALE, DISPOSITIF D'INSPECTION DE SURFACE ENVERS DE TRANCHE ÉPITAXIALE, PROCÉDÉ DE GESTION DE BROCHE DE SOULÈVEMENT DE DISPOSITIF DE CROISSANCE ÉPITAXIALE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE TRANCHE ÉPITAXIALE

Pub. No.:    WO/2018/163850    International Application No.:    PCT/JP2018/006517
Publication Date: Fri Sep 14 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Feb 23 00:59:59 CET 2018
IPC: G01N 21/956
H01L 21/66
Applicants: SUMCO CORPORATION
株式会社SUMCO
Inventors: MATSUO Keiko
松尾 圭子
WADA Naoyuki
和田 直之
EGASHIRA Masahiko
江頭 雅彦
Title: PROCÉDÉ D'INSPECTION DE SURFACE ENVERS DE TRANCHE ÉPITAXIALE, DISPOSITIF D'INSPECTION DE SURFACE ENVERS DE TRANCHE ÉPITAXIALE, PROCÉDÉ DE GESTION DE BROCHE DE SOULÈVEMENT DE DISPOSITIF DE CROISSANCE ÉPITAXIALE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE TRANCHE ÉPITAXIALE
Abstract:
L'invention concerne un procédé d'inspection de surface envers de tranche épitaxiale apte à détecter un défaut de type marque d'épingle sur une surface envers d'une tranche épitaxiale, et apte à évaluer quantitativement la taille de défaut de chaque défaut analogue à un point dans le défaut type marque d'épingle. Ledit procédé d'inspection de surface envers de tranche épitaxiale comprend : une étape d'imagerie (S10) consistant à capturer en continu des images partielles d'une surface envers de tranche épitaxiale tout en amenant un système optique à effectuer un balayage au moyen d'une unité de balayage; une étape d'acquisition (S20) consistant à acquérir une image globale de la surface envers à partir des images partielles; une étape de détection (S30) consistant à détecter, à partir de l'image globale, un défaut de type marque d'épingle comprenant un groupe formé par une pluralité de défauts de type point existant sur la surface envers; et une étape de traitement de quantification (S40) consistant à soumettre chaque défaut de type point dans le défaut de type marque d'épingle détecté à un processus de quantification afin de calculer une aire de défaut de chaque défaut de type point.