Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018163848) DISPOSITIF DE COLLECTE D'ÉCHANTILLON, PROCÉDÉ DE COLLECTE D'ÉCHANTILLON ET DISPOSITIF D'ANALYSE À RAYONS X FLUORESCENTS UTILISANT CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/163848 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/006491
Date de publication : 13.09.2018 Date de dépôt international : 22.02.2018
CIB :
G01N 23/223 (2006.01) ,G01N 23/2202 (2018.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
23
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement (ondes ou particules) non couvertes par le groupe G01N21/ ou G01N22/183
22
en mesurant l'émission secondaire
223
en irradiant l'échantillon avec des rayons X et en mesurant la fluorescence X
[IPC code unknown for G01N 23/2202]
Déposants :
株式会社リガク RIGAKU CORPORATION [JP/JP]; 東京都昭島市松原町3丁目9番12号 3-9-12, Matsubara-cho, Akishima-shi, Tokyo 1968666, JP
Inventeurs :
栗田 清逸 KURITA, Seiitsu; JP
Mandataire :
特許業務法人はるか国際特許事務所 HARUKA PATENT & TRADEMARK ATTORNEYS; 東京都千代田区六番町3 六番町SKビル5階 Rokubancho SK Bldg. 5th Floor, 3, Rokubancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020085, JP
Données relatives à la priorité :
2017-04294307.03.2017JP
Titre (EN) SAMPLE COLLECTION DEVICE, SAMPLE COLLECTION METHOD, AND FLUORESCENT X-RAY ANALYSIS DEVICE EMPLOYING SAME
(FR) DISPOSITIF DE COLLECTE D'ÉCHANTILLON, PROCÉDÉ DE COLLECTE D'ÉCHANTILLON ET DISPOSITIF D'ANALYSE À RAYONS X FLUORESCENTS UTILISANT CELUI-CI
(JA) 試料回収装置、試料回収方法、及びこれらを用いた蛍光X線分析装置
Abrégé :
(EN) The objective of the present invention is to provide a fluorescent X-ray analysis device with which, when collecting a contaminating impurity attached to a substrate, if a portion of a droplet falls from an end portion of the substrate or runs around to the rear surface thereof, it is possible to correct an analysis result quantifying the impurity, or to detect said situation. This fluorescent X-ray analysis device comprises: a collecting unit (106) which drops a droplet (202) onto a substrate (104) on a surface of which an object being measured (contaminating impurity) is present, and moves the dropped droplet over the substrate surface to capture the object being measured in the droplet; a drying unit (114) which dries the droplet and causes the object being measured to be retained on the surface of the substrate; an analyzing unit which irradiates the object being measured with X-rays, and analyzes elements contained in the object being measured on the basis of fluorescent X-rays emitted from the object being measured; a beam sensor (108, 110) which, after the object being measured has been collected and before the droplet has been dried, emits a strip-shaped laser (204) to detect an amount of the droplet that has become separated from the collecting unit; and a calculating unit which calculates, from the result of the detection by the beam sensor, a correction factor for correcting the droplet amount or correcting a quantitative analysis value of the object being measured.
(FR) L'objectif de la présente invention est de fournir un dispositif d'analyse à rayons X fluorescents avec lequel, lors de la collecte d'une impureté contaminante fixée à un substrat, si une partie d'une gouttelette tombe depuis une partie d'extrémité du substrat ou se propage autour de la surface arrière de celui-ci, il est possible de corriger un résultat d'analyse quantifiant l'impureté, ou de détecter ladite situation. Ce dispositif d'analyse à rayons X fluorescent comprend : une unité de collecte (106) qui dépose une gouttelette (202) sur un substrat (104) sur une surface duquel un objet étant mesuré (impureté contaminante) est présent, et déplace la gouttelette déposée sur la surface du substrat pour capturer l'objet étant mesuré dans la gouttelette ; une unité de séchage (114) qui sèche la gouttelette et amène l'objet étant mesuré à être retenu sur la surface du substrat ; une unité d'analyse qui irradie l'objet étant mesuré avec des rayons X, et analyse des éléments contenus dans l'objet étant mesuré sur la base de rayons X fluorescents émis depuis l'objet mesuré ; un capteur de faisceau (108, 110) qui, après que l'objet mesuré ait été collecté et avant que la gouttelette ait été séchée, émet un laser en forme de bande (204) pour détecter une quantité de la gouttelette qui a été séparée de l'unité de collecte ; et une unité de calcul qui calcule, à partir du résultat de la détection par le capteur de faisceau, un facteur de correction pour corriger la quantité de gouttelette ou corriger une valeur d'analyse quantitative de l'objet étant mesuré.
(JA) 本発明の目的は、基板に付着した汚染不純物を回収する際に、液滴の一部が基板端部から落下または裏面に回り込んだ場合に、不純物を定量した分析結果を補正または当該状況を検出できる蛍光X線分析装置を提供することにある。 本発明の蛍光X線分析装置は、表面に被測定物(汚染不純物)が存在する基板(104)に液滴(202)を滴下するとともに、前記滴下された液滴を前記基板表面上で移動させて、前記被測定物を前記液滴中に取り込む回収部(106)と、前記液滴を乾燥させ、前記被測定物を前記基板の表面上に保持させる乾燥部(114)と、前記被測定物にX線を照射し、前記被測定物から出射された蛍光X線に基づいて前記被測定物に含まれる元素を分析する分析部と、前記被測定物を回収後に前記液滴を乾燥させる前に、前記回収部から離れた前記液滴の量を検出する帯状のレーザ(204)を出射するビームセンサ(108,110)と、前記ビームセンサの検出結果から前記液滴の量または前記被測定物の定量分析値を補正する補正係数を算出する演算部と、を有する。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)