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1. (WO2018163749) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2018/163749    International Application No.:    PCT/JP2018/005308
Publication Date: Fri Sep 14 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Feb 16 00:59:59 CET 2018
IPC: H01L 21/304
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: YANO, Wataru
矢野 航
NONOMURA, Masahiro
野々村 正浩
FURUKAWA, Masaaki
古川 正晃
Title: APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abstract:
L'invention concerne un appareil de traitement de substrat qui comprend : une base qui tourne autour d'une ligne d'axe de rotation vertical; une pluralité de broches de maintien disposées, sur la base, à des intervalles le long de la direction de rotation de la base, et maintenant une partie de bord périphérique du substrat au-dessus de la base; un élément frontal disposé entre la base et le substrat, et pouvant s'élever et s'abaisser entre une position distincte espacée vers le bas à partir du substrat et une position proche plus près du substrat que la position distincte, l'élément frontal faisant face au substrat par le dessous; et un premier élément d'empêchement d'entrée qui est disposé sur l'élément frontal et qui empêche un écoulement d'air d'entrer dans un espace entre l'élément frontal et la surface inférieure du substrat tandis que l'élément frontal est positionné au niveau de la position proche.