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1. (WO2018163576) CÔNE À PLASMA POUR SPECTROMÈTRE DE MASSE À PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF, SPECTROMÈTRE DE MASSE À PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CÔNE À PLASMA POUR SPECTROMÈTRE DE MASSE À PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF

Pub. No.:    WO/2018/163576    International Application No.:    PCT/JP2017/046971
Publication Date: Fri Sep 14 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Dec 28 00:59:59 CET 2017
IPC: H01J 49/06
G01N 27/62
Applicants: SHIN-ETSU HANDOTAI CO.,LTD.
信越半導体株式会社
Inventors: ARAKI, Kenji
荒木 健司
Title: CÔNE À PLASMA POUR SPECTROMÈTRE DE MASSE À PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF, SPECTROMÈTRE DE MASSE À PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CÔNE À PLASMA POUR SPECTROMÈTRE DE MASSE À PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF
Abstract:
Selon l'invention, un cône échantillonneur (14) et un cône écorceur (16) formant un cône à plasma constituant une partie d'une partie d'interface d'un spectromètre de masse à plasma à couplage inductif comportent : des matériaux de base (141), (161) constitués de cuivre, de nickel, etc. ; et des films de revêtement (142), (162) formés sur la surface des matériaux de base (141), (161). Les films de revêtement (142), (162) sont constitués de platine, d'un métal du groupe du platine autre que le platine, d'or ou d'un alliage de ceux-ci. En outre, les films de revêtement (142), (162) sont formés grâce à un procédé de placage ionique ou un procédé de CVD assisté par plasma. L'invention concerne ainsi un cône à plasma, un spectromètre de masse à plasma à couplage inductif comprenant ledit cône à plasma, et un procédé de fabrication du cône à plasma de celui-ci, avec lequel il est possible de réduire l'arrière-plan d'impuretés et d'améliorer également la durabilité sans sacrifier la sensibilité (force ionique).