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1. (WO2018161560) PLAQUE DE MASQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF DE PROTECTION CONTRE LA LUMIÈRE ET SON PROCÉDÉ DE COMMANDE
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N° de publication : WO/2018/161560 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/105383
Date de publication : 13.09.2018 Date de dépôt international : 09.10.2017
CIB :
G02F 1/153 (2006.01) ,G02F 1/163 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01
pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
15
basés sur des éléments électrochromiques
153
Dispositions relatives à la structure
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01
pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
15
basés sur des éléments électrochromiques
163
Excitation de cellules électrochromiques; Dispositions relatives aux circuits
Déposants :
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No. 10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
合肥鑫晟光电科技有限公司 HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国安徽省合肥市 新站区工业园内 Xinzhan Industrial Park Hefei, Anhui 230012, CN
Inventeurs :
侯本象 HOU, Benxiang; CN
郭知广 GUO, Zhiguang; CN
尹希磊 YIN, Xilei; CN
向鑫 XIANG, Xin; CN
Mandataire :
北京中博世达专利商标代理有限公司 BEIJING ZBSD PATENT&TRADEMARK AGENT LTD.; 中国北京市 海淀区交大东路31号11号楼8层 8F, Building 11 No. 31 Jiaoda East Road, Haidian District Beijing 100044, CN
Données relatives à la priorité :
201710142079.510.03.2017CN
Titre (EN) MASK PLATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND LIGHT-SHIELDING DEVICE AND CONTROL METHOD THEREOF
(FR) PLAQUE DE MASQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF DE PROTECTION CONTRE LA LUMIÈRE ET SON PROCÉDÉ DE COMMANDE
(ZH) 掩膜板及其制作方法、遮光装置及其控制方法
Abrégé :
(EN) The present invention relates to the technical field of display technology. Provided are a mask plate (3) and a manufacturing method thereof, and a light-shielding device and a control method thereof capable of reducing costs relating to use of mask plates. The mask plate (3) comprises a substrate (31), multiple control switches (32), and multiple electrochromic film devices (33). The control switches (32) and the electrochromic film devices (33) are provided at the substrate (31). The multiple control switches (32) are connected in one-to-one correspondence with the multiple electrochromic film devices (33). The control switch (32) is used to control, according to a light-shielding region and an optically transmissive region of the mask plate (3), a transmittance of the corresponding electrochromic film device (33).
(FR) La présente invention se rapporte au domaine technique de la technologie d'affichage et porte sur une plaque de masque (3) et son procédé de fabrication, et sur un dispositif de protection contre la lumière et son procédé de commande, permettant de réduire les coûts relatifs à l'utilisation de plaques de masque. La plaque de masque (3) comprend un substrat (31), de multiples commutateurs de commande (32), et de multiples dispositifs à film électrochromique (33). Les commutateurs de commande (32) et les dispositifs à film électrochromique (33) sont disposés sur le substrat (31). Les multiples commutateurs de commande (32) sont connectés en correspondance biunivoque avec les multiples dispositifs à film électrochromique (33). Le commutateur de commande (32) est utilisé de façon à commander, selon une région de protection contre la lumière et une région optiquement transmissive de la plaque de masque (3), une transmittance du dispositif à film électrochromique correspondant (33).
(ZH) 一种掩膜板及其制作方法、遮光装置及其控制方法,涉及显示技术领域,降低掩膜板的使用成本。掩膜板(3)包括衬底基板(31)、设于衬底基板(31)上的多个控制开关(32)和多个电致变色膜器件(33);多个控制开关(32)和多个电致变色膜器件(33)一一对应连接,其中,控制开关(32)用于根据掩膜板(3)的遮光区域和透光区域,控制对应的电致变色膜器件(33)的光透过率。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)