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1. (WO2018160688) IMAGERIE DE SUBSTRAT À MOTIFS À L'AIDE DE MULTIPLES FAISCEAUX D'ÉLECTRONS
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N° de publication : WO/2018/160688 N° de la demande internationale : PCT/US2018/020217
Date de publication : 07.09.2018 Date de dépôt international : 28.02.2018
CIB :
H01J 37/256 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
252
Tubes analyseurs à spot par faisceaux électroniques ou ioniques; Micro-analyseurs
256
utilisant des faisceaux de balayage
Déposants :
ZHAO, Yan [US/US]; US
DONGFANG JINGYUAN ELECTRON LIMITED [CN/CN]; 156 4th Jinghai Road, Building 12 Beijing Economic Development District Beijing, Hebei 100176, CN
Inventeurs :
ZHAO, Yan; US
SUN, Weiqiang; CN
FENG, Tao; CN
Mandataire :
XIAO, Lin; US
KNIGHT, Michelle L.; US
Données relatives à la priorité :
15/872,57016.01.2018US
62/465,30301.03.2017US
Titre (EN) PATTERNED SUBSTRATE IMAGING USING MULTIPLE ELECTRON BEAMS
(FR) IMAGERIE DE SUBSTRAT À MOTIFS À L'AIDE DE MULTIPLES FAISCEAUX D'ÉLECTRONS
Abrégé :
(EN) A method for imaging a surface of a substrate using a multibeam imaging system includes: modifying an electron beam using a multipole field device; generating beamlets from the electron beam using a beam splitting device having multiple apertures; in response to projecting foci of the beamlets onto the surface, driving the beamlets using a deflector set to scan a region of the surface for receiving signals based on electrons scattered from the region; and determining an image of the region for inspection based on the signals. The multibeam imaging system includes: an electron source; a first multipole field device for beam shaping and beam aberration correction; a beam splitting device; a projection lens set; a deflector set; an objective lens set; a detector array; a second multipole field device; a processor; and a memory storing instructions to determine an image of the region for inspection based on the signals.
(FR) L'invention concerne un procédé d'imagerie d'une surface d'un substrat à l'aide d'un système d'imagerie à faisceaux multiples qui comprend : la modification d'un faisceau d'électrons à l'aide d'un dispositif de champ multipolaire ; la génération de petits faisceaux à partir du faisceau d'électrons à l'aide d'un dispositif de division de faisceau ayant de multiples ouvertures ; en réponse à la projection de foyers des petits faisceaux sur la surface, la commande des petits faisceaux à l'aide d'un ensemble déflecteur servant à balayer une région de la surface pour recevoir des signaux sur la base d'électrons diffusés à partir de la région ; et à déterminer une image de la région pour une inspection sur la base des signaux. Le système d'imagerie à faisceaux multiples comprend : une source d'électrons ; un premier dispositif de champ multipolaire permettant la mise en forme de faisceau et la correction d'aberration de faisceau ; un dispositif de division de faisceau ; un ensemble de lentilles de projection ; un ensemble déflecteur ; un ensemble de lentilles d'objectif ; un réseau de détecteurs ; un second dispositif de champ multipolaire ; un processeur ; et une mémoire stockant des instructions servant à déterminer une image de la région pour une inspection sur la base des signaux.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)