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1. (WO2018159757) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE COUCHE DE RÉFLEXION
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N° de publication : WO/2018/159757 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/007766
Date de publication : 07.09.2018 Date de dépôt international : 01.03.2018
CIB :
G02B 5/30 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01) ,C09K 19/38 (2006.01) ,C09K 19/54 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
30
Eléments polarisants
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01
pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13
basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133
Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333
Dispositions relatives à la structure
1335
Association structurelle de dispositifs optiques, p.ex. de polariseurs, de réflecteurs, avec la cellule
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
19
Substances formant des cristaux liquides
04
caractérisées par la structure chimique des constituants formant des cristaux liquides
38
Polymères, p.ex. polyamides
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
19
Substances formant des cristaux liquides
52
caractérisées par des constituants qui ne sont pas des cristaux liquides, p.ex. additifs
54
Additifs n'ayant pas de mésophase spécifique
Déposants :
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs :
加藤 峻也 KATOH Shunya; JP
小玉 啓祐 KODAMA Keisuke; JP
Mandataire :
渡辺 望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
三和 晴子 MIWA Haruko; JP
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
Données relatives à la priorité :
2017-03931702.03.2017JP
Titre (EN) MANUFACTURING METHOD FOR REFLECTION LAYER
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE COUCHE DE RÉFLEXION
(JA) 反射層の製造方法
Abrégé :
(EN) The present invention provides a manufacturing method for a reflection layer having excellent diffuse reflectivity. This manufacturing method for a reflection layer is a manufacturing method for a reflection layer formed by fixing a cholesteric liquid crystal phase, and having wavy light and dark parts derived from the cholesteric liquid crystal phase and observed with a scanning electron microscope in cross section, the method comprising: a step 1 for forming a composition layer containing a liquid crystal compound having a polymerizable group, and a chiral agent, and performing processing for changing the light and dark parts derived from the cholesteric liquid crystal phase and observed with the scanning electron microscope in the cross-section of the formed composition layer into a wave shape; and a step 2 for subjecting the composition layer obtained in step 1 to immobilization processing, wherein the viscosity of a composition constituting the composition layer is 2000 mPa∙s or more in the immobilization processing in step 2.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication d'une couche de réflexion ayant une excellente réflectivité diffuse. Ledit procédé de fabrication d'une couche de réflexion est un procédé de fabrication d'une couche de réflexion formée par la fixation d'une phase de cristaux liquides cholestériques, et comportant des parties claires et sombres ondulées dérivées de la phase de cristaux liquides cholestériques et observées en coupe transversale au moyen d'un microscope électronique à balayage, le procédé comprenant : une étape 1 consistant à former une couche de composition contenant un composé de cristaux liquides comportant un groupe polymérisable, et un agent chiral, et à appliquer d'un traitement de modification en une forme d'onde les parties claires et sombres dérivées de la phase de cristaux liquides cholestériques et observées en coupe transversale au moyen du microscope électronique à balayage de la couche de composition formée ; et une étape 2 consistant à soumettre la couche de composition obtenue à l'étape 1 à un traitement d'immobilisation, la viscosité d'une composition constituant la couche de composition étant égale ou supérieure à 2 000 mPa∙s lors du traitement d'immobilisation de l'étape 2.
(JA) 本発明は、優れた拡散反射性を有する反射層の製造方法を提供する。本発明の反射層の製造方法は、コレステリック液晶相を固定してなり、断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部および暗部が波状である反射層の製造方法であって、重合性基を有する液晶化合物およびキラル剤を含む組成物層を形成し、形成された組成物層の断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部および暗部を波状に変化させる処理を実施する工程1と、工程1で得られた組成物層に対して固定化処理を施す工程2と、を有し、工程2の固定化処理の際に、組成物層を構成する組成物の粘度が2000mPa・s以上である。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)