Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2018159665) COMPOSITION POUR FORMER UN FILM DE REVÊTEMENT POUR UNE UTILISATION D'ÉLIMINATION DE MATIÈRE ÉTRANGÈRE

Pub. No.:    WO/2018/159665    International Application No.:    PCT/JP2018/007471
Publication Date: Sat Sep 08 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Mar 01 00:59:59 CET 2018
IPC: H01L 21/02
C09D 179/08
C09D 201/00
Applicants: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
日産化学株式会社
Inventors: KISHIOKA Takahiro
岸岡 高広
TAMURA Mamoru
田村 護
USUI Yuki
臼井 友輝
OGATA Hiroto
緒方 裕斗
Title: COMPOSITION POUR FORMER UN FILM DE REVÊTEMENT POUR UNE UTILISATION D'ÉLIMINATION DE MATIÈRE ÉTRANGÈRE
Abstract:
Le but de la présente invention est de fournir : un procédé simplifié pour éliminer des matières étrangères formées sur un substrat dans un procédé de fabrication de dispositif à semiconducteur; et une composition pour former un film de revêtement pour une utilisation d'élimination de matière étrangère, qui peut être utilisée dans le procédé. Un film de revêtement est formé sur un substrat semiconducteur à l'aide d'une composition contenant de préférence un acide polyamique produit à partir de (a) un composé dianhydride tétracarboxylique et (b) un composé diamine ayant au moins un groupe carboxyle ou un acide polyamique produit à partir de (a) un composé de dianhydride tétracarboxylique, (b) un composé diamine ayant au moins un groupe carboxyle et (c) un composé diamine, puis des matières étrangères se produisant sur le film de revêtement sont éliminées conjointement avec le film de revêtement par le traitement avec une solution de développement.