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1. (WO2018159335) LENTILLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE LENTILLE
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N° de publication : WO/2018/159335 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/005586
Date de publication : 07.09.2018 Date de dépôt international : 16.02.2018
CIB :
G02B 3/00 (2006.01) ,G02B 1/115 (2015.01) ,G02B 1/14 (2015.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
3
Lentilles simples ou composées
[IPC code unknown for G02B 1/115][IPC code unknown for G02B 1/14]
Déposants :
日本電産株式会社 NIDEC CORPORATION [JP/JP]; 京都府京都市南区久世殿城町338番地 338 Kuzetonoshiro-cho, Minami-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6018205, JP
Inventeurs :
大谷 宗之 OTANI, Muneyuki; JP
中山 隆司 NAKAYAMA, Takashi; JP
加本 貴則 KAMOTO, Takanori; JP
Données relatives à la priorité :
2017-03828601.03.2017JP
Titre (EN) LENS AND METHOD FOR MANUFACTURING LENS
(FR) LENTILLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE LENTILLE
(JA) レンズおよびレンズの製造方法
Abrégé :
(EN) This lens is provided with: a lens main body, which has a convex surface, and which is formed of a resin; a buffer layer that is provided on the convex surface; and an antireflection layer that is provided on the buffer layer. The thickness of the buffer layer is 0.7-6.17 μm, and the thickness of the antireflection layer is 0.07-0.57 μm. In a more preferable lens, the thickness of the buffer layer is 1.0-5.0 μm, and the thickness of the antireflection layer is 0.10-0.50 μm.
(FR) Cette lentille est pourvue : d'un corps principal de lentille, qui a une surface convexe, et qui est formé d'une résine; d'une couche tampon qui est disposée sur la surface convexe; et d'une couche antireflet qui est disposée sur la couche tampon. L'épaisseur de la couche tampon est de 0,7 à 6,17 µm, et l'épaisseur de la couche antireflet est de 0,07 à 0,57 µm. Dans une lentille plus préférable, l'épaisseur de la couche tampon est de 1,0 à 5,0 µm, et l'épaisseur de la couche antireflet est de 0,10 à 0,50 µm.
(JA) レンズは、凸面を有する樹脂製のレンズ本体と、前記凸面上に設けられる緩衝層と、前記緩衝層上に設けられる反射防止層と、を備える。前記緩衝層の厚さが、0.7μm以上かつ6.1μm以下であり、前記反射防止層の厚さが、0.07μm以上かつ0.57μm以下である。より好ましいレンズでは、前記緩衝層の厚さが、1.0μm以上かつ5.0μm以下であり、前記反射防止層の厚さが、0.10μm以上かつ0.50μm以下である。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)