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1. (WO2018159085) SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2018/159085    International Application No.:    PCT/JP2017/046520
Publication Date: Sat Sep 08 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Dec 27 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 21/02
G05B 19/418
H01L 21/677
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: SHIBATA Hideki
柴田 英樹
KIMURA Ryuichi
木村 隆一
Title: SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abstract:
La présente invention a pour objet de préparer un planning d'un lot non arrivé de sorte que le planning ne bute pas dans un planning d'un autre lot à préparer par la suite. L'objet de l'invention est réalisé par une unité de planification qui prépare, sous la forme d'un planning temporaire, un planning d'un lot non arrivé en se basant sur un planning d'un lot arrivé et une recette du lot non arrivé, et transmet le planning temporaire à un ordinateur hôte. L'ordinateur hôte détermine s'il faut transporter ou non le lot non arrivé vers un dispositif de traitement de substrat sur la base du planning temporaire et, s'il détermine que le lot non arrivé doit être transporté vers le dispositif de traitement de substrat, fournit à l'unité de planification un signal indiquant le transport du lot non arrivé vers le dispositif de traitement de substrat. Lors de la réception du signal, l'unité de planification exécute un processus de réservation afin de réserver, dans l'unité de planification, le planning temporaire du lot non arrivé en tant que planning exclusif d'un planning d'un autre lot, avant que le lot non arrivé arrive au niveau du dispositif de traitement de substrat.