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1. (WO2018159005) DISPOSITIF D'EXPOSITION, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE SUBSTRAT, ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2018/159005    International Application No.:    PCT/JP2017/036074
Publication Date: Sat Sep 08 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Oct 05 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/027
G03F 7/20
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: FUKUMOTO, Yasuhiro
福本 靖博
OKI, Takafumi
大木 孝文
MATSUO, Tomohiro
松尾 友宏
ASAI, Masaya
浅井 正也
HARUMOTO, Masahiko
春本 将彦
TANAKA, Yuji
田中 裕二
NAKAYAMA, Chisayo
中山 知佐世
Title: DISPOSITIF D'EXPOSITION, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE SUBSTRAT, ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abstract:
Selon l'invention, un dispositif d'exposition (100) comprend une unité de projection de lumière (160), un luxmètre (183), une unité de protection contre la lumière (190) et une unité de commande de projection de lumière (12). Un rayonnement ultraviolet du vide est projeté, par l'unité de projection de lumière, sur une surface à traiter d'un substrat (W). Dans une période de projection du rayonnement ultraviolet du vide de l'unité de projection de lumière sur le substrat, une partie du rayonnement ultraviolet du vide est reçue par le luxmètre, et l'éclairement du rayonnement ultraviolet du vide reçu est mesuré. Dans la période de projection, l'effet du rayonnement ultraviolet du vide sur une surface de réception de lumière du luxmètre est bloqué par intermittence par l'unité de protection contre la lumière. En fonction de l'éclairement mesuré en utilisant le luxmètre, la projection sur le substrat du rayonnement ultraviolet du vide par l'unité de projection de lumière est arrêtée.