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1. (WO2018158129) MÉLANGE DE GAZ-ÉMETTEUR DE LASER POUR LASER EXCIMÈRE
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N° de publication : WO/2018/158129 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/054370
Date de publication : 07.09.2018 Date de dépôt international : 22.02.2018
CIB :
H01S 3/225 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
3
Lasers, c. à d. dispositifs pour la production, l'amplification, la modulation, la démodulation ou le changement de fréquence utilisant l'émission stimulée d'ondes infrarouges, visibles ou ultraviolettes
14
caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif
22
à gaz
223
le gaz actif étant polyatomique, c. à d. contenant plus d'un atome
225
comprenant un excimer ou un exciplex
Déposants :
COHERENT LASERSYSTEMS GMBH & CO. KG [DE/DE]; Hans-Böckler-Strasse 12 37079 Göttingen, DE
Inventeurs :
BRAGIN, Igor; DE
MELNIKOV, Oleg; DE
MISYURYAEV, Timur; US
Mandataire :
REDDIE & GROSE LLP; Robert SACKIN The White Chapel Building 10 Whitechapel High Street London Greater London E1 8QS, GB
Données relatives à la priorité :
15/448,02302.03.2017US
Titre (EN) LASING-GAS MIXTURE FOR EXCIMER LASER
(FR) MÉLANGE DE GAZ-ÉMETTEUR DE LASER POUR LASER EXCIMÈRE
Abrégé :
(EN) A xenon chloride (XeC1) excimer laser (12) includes a lasing-gas mixture including a buffer gas, a noble gas, a halogen-donating gas, and deuterium. The deuterium is present in a concentration greater than about 10 parts-per-million.
(FR) Un laser excimère (12) au chlorure de xénon (XeC1) comprend un mélange de gaz-émetteur de laser comprenant un gaz tampon, un gaz noble, un gaz donneur d'halogène et du deutérium. Le deutérium est présent dans une concentration supérieure à environ 10 parties par million.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)