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1. (WO2018158053) SOURCE DE RAYONNEMENT
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N° de publication : WO/2018/158053 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/053037
Date de publication : 07.09.2018 Date de dépôt international : 07.02.2018
CIB :
H05G 2/00 (2006.01) ,G02F 1/35 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
G
TECHNIQUE DES RAYONS X
2
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
35
Optique non linéaire
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
VAN DER POST, Sietse, Thijmen; NL
ROOBOL, Sander, Bas; NL
EVTUSHENKO, Pavel; NL
Mandataire :
WILLEKENS, Jeroen, Pieter, Frank; NL
Données relatives à la priorité :
17158942.702.03.2017EP
Titre (EN) RADIATION SOURCE
(FR) SOURCE DE RAYONNEMENT
Abrégé :
(EN) A radiation source arrangement causes interaction between pump radiation (340) and a gaseous medium (406) to generate EUV or soft x-ray radiation by higher harmonic generation (HHG). The operating condition of the radiation source arrangement is monitored by detecting (420/430) third radiation (422) resulting from an interaction between condition sensing radiation and the medium. The condition sensing radiation (740) may be the same as the first radiation or it may be separately applied. The third radiation may be for example a portion of the condition sensing radiation that is reflected or scattered by a vacuum-gas boundary, or it may be lower harmonics of the HHG process, or fluorescence, or scattered. The sensor may include one or more image detectors so that spatial distribution of intensity and/or the angular distribution of the third radiation may be analyzed. Feedback control based on the determined operating condition stabilizes operation of the HHG source.
(FR) Cette invention concerne un agencement de source de rayonnement qui provoque une interaction entre un rayonnement de pompe (340) et un milieu gazeux (406) pour générer un rayonnement ultraviolet extrême ou de rayons X mous par génération d'harmoniques d'ordre élevé (HHG). La condition de fonctionnement de l'agencement de source de rayonnement est surveillée par détection (420/430)d'un troisième rayonnement (422) résultant d'une interaction entre le rayonnement de détection de condition et le support. Le rayonnement de détection de condition (740) peut être le même que le premier rayonnement ou il peut être appliqué séparément. Le troisième rayonnement peut être par exemple une partie du rayonnement de détection de condition qui est réfléchie ou diffusée par une limite de gaz sous vide, ou il peut s'agir d'harmoniques d'ordre inférieur du processus de génération d'harmoniques d'ordre élevé, ou d'une fluorescence ou d'une diffusion. Le capteur peut comprendre un ou plusieurs détecteurs d'image de telle sorte que la distribution spatiale de l'intensité et/ou la distribution angulaire du troisième rayonnement puissent être analysées. Une commande de rétroaction basée sur la condition de fonctionnement déterminée stabilise le fonctionnement de la source de génération d'harmoniques d'ordre élevé.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)