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1. (WO2018155034) DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR D'OXYDE ET SEMI-CONDUCTEUR
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N° de publication : WO/2018/155034 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/001729
Date de publication : 30.08.2018 Date de dépôt international : 22.01.2018
CIB :
C01G 33/00 (2006.01) ,H01L 29/786 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
G
COMPOSÉS CONTENANT DES MÉTAUX NON COUVERTS PAR LES SOUS-CLASSES C01D OU C01F104
33
Composés du niobium
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
29
Dispositifs à semi-conducteurs spécialement adaptés au redressement, à l'amplification, à la génération d'oscillations ou à la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; Condensateurs ou résistances ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. jonction PN, région d'appauvrissement, ou région de concentration de porteurs de charges; Détails des corps semi-conducteurs ou de leurs électrodes
66
Types de dispositifs semi-conducteurs
68
commandables par le seul courant électrique fourni ou par la seule tension appliquée, à une électrode qui ne transporte pas le courant à redresser, amplifier ou commuter
76
Dispositifs unipolaires
772
Transistors à effet de champ
78
l'effet de champ étant produit par une porte isolée
786
Transistors à couche mince
Déposants :
国立研究開発法人産業技術総合研究所 NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 東京都千代田区霞が関1丁目3番1号 3-1,Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008921, JP
Inventeurs :
菊地 直人 KIKUCHI, Naoto; JP
相浦 義弘 AIURA, Yoshihiro; JP
三溝 朱音 SAMIZO, Akane; JP
池田 紳太郎 IKEDA, Shintarou; JP
Mandataire :
特許業務法人筒井国際特許事務所 TSUTSUI & ASSOCIATES; 東京都新宿区新宿2丁目3番10号 新宿御苑ビル3階 3F, Shinjuku Gyoen Bldg., 3-10, Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
Données relatives à la priorité :
2017-03211323.02.2017JP
Titre (EN) OXIDE SEMICONDUCTOR AND SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR D'OXYDE ET SEMI-CONDUCTEUR
(JA) 酸化物半導体及び半導体装置
Abrégé :
(EN) Provided are: an oxide semiconductor device capable of providing a p-type semiconductor in an oxide semiconductor and having excellent transparency, mobility, and weather resistance; and a semiconductor device comprising said oxide semiconductor. This oxide semiconductor has a crystal structure including a fordite structure, comprises a composite oxide including elements Nb and Sn , and has positive holes that serve as charge carriers as a result of Sn4+/(Sn2+ + Sn4+), which is the Sn4+ ratio relative to the total Sn content in the composite oxide, being 0.006 ≤ Sn4+/(Sn2+ + Sn4+) ≤ 0.013.
(FR) L'invention concerne : un dispositif semi-conducteur d'oxyde capable de fournir un semi-conducteur de type p dans un semi-conducteur d'oxyde et ayant une excellente transparence, une excellente mobilité et une excellente résistance aux intempéries; et un dispositif semi-conducteur comprenant ledit semi-conducteur d'oxyde. Ce semi-conducteur d'oxyde a une structure cristalline comprenant une structure fordite, comprend un oxyde composite comprenant des éléments Nb et Sn, et présente des trous positifs qui servent de porteurs de charge en raison de Sn4+/(Sn2+ + Sn4+), qui est le rapport de Sn4+ par rapport à la teneur totale en Sn dans l'oxyde composite, étant 0,006 ≤ Sn4+/(Sn2+ + Sn4+) ≤ 0,013.
(JA) 酸化物半導体においてp型半導体を実現可能にし、透明性、移動度、耐候性等の優れた酸化物半導体及び該酸化物半導体を備える半導体装置を提供する。フォーダイト構造を含む結晶構造を有し、Nb元素とSn元素を含む複合酸化物で構成され、前記複合酸化物中の全Sn量に対するSn4+の割合であるSn4+/(Sn2++Sn4+)が0.006≦Sn4+/(Sn2++Sn4+)≦0.013であることにより、正孔が荷電担体となる酸化物半導体を実現する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)