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1. (WO2018146824) DISPOSITIF DE PRODUCTION DE SOLUTION D'AMMONIAC ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SOLUTION D'AMMONIAC
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N° de publication :
WO/2018/146824
N° de la demande internationale :
PCT/JP2017/009432
Date de publication :
16.08.2018
Date de dépôt international :
09.03.2017
CIB :
C02F 1/68
(2006.01) ,
B08B 3/08
(2006.01) ,
C02F 1/42
(2006.01)
C
CHIMIE; MÉTALLURGIE
02
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
F
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1
Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
68
par addition de substances spécifiées, pour améliorer l'eau potable, p.ex. par addition d'oligo-éléments
B
TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08
NETTOYAGE
B
NETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
3
Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation ou la présence d'un liquide ou de vapeur d'eau
04
Nettoyage impliquant le contact avec un liquide
08
le liquide ayant un effet chimique ou dissolvant
C
CHIMIE; MÉTALLURGIE
02
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
F
TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1
Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
42
par échange d'ions
Déposants :
栗田工業株式会社 KURITA WATER INDUSTRIES LTD.
[JP/JP]; 東京都中野区中野四丁目10番1号 10-1, Nakano 4-chome, Nakano-ku, Tokyo 1640001, JP
Inventeurs :
小川 祐一 OGAWA Yuuichi
; JP
Mandataire :
早川 裕司 HAYAKAWA Yuzi
; JP
村雨 圭介 MURASAME Keisuke
; JP
Données relatives à la priorité :
2017-022518
09.02.2017
JP
Titre
(EN)
AMMONIA SOLUTION PRODUCTION DEVICE AND AMMONIA SOLUTION PRODUCTION METHOD
(FR)
DISPOSITIF DE PRODUCTION DE SOLUTION D'AMMONIAC ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SOLUTION D'AMMONIAC
(JA)
アンモニア水溶液の製造装置及びアンモニア水溶液の製造方法
Abrégé :
(EN)
This ammonia solution production device produces a diluted ammonia solution by supplying ammonia from an ammonia supply device to ultrapure water supplied from an ultrapure water production device and dissolving the same therein, and supplies this ammonia solution to the point of use. The ultrapure water production device has the ability to supply ultrapure water W having a resistance value of 18 MΩ·cm or higher, and a metal ion concentration of 1ng/L or less, specifically, 0.1ng/L or less. The diluted ammonia solution is produced by adding ammonia from the ammonia supply device to the ultrapure water W. This ammonia solution production device preferably produces a diluted ammonia solution having an ammonia (ammonium ion) concentration of 100mg/L or less, and specifically, 50mg/L or less. This ammonia solution production device is capable of producing an ammonia solution at a stable concentration, and exhibits excellent tracking of changes in concentration.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de production de solution d'ammoniac qui produit une solution d'ammoniac diluée en fournissant de l'ammoniac provenant d'un dispositif d'alimentation en ammoniac à de l'eau ultrapure fournie à partir d'un dispositif de production d'eau ultrapure et en le dissolvant à l'intérieur de celle-ci, et fournit cette solution d'ammoniac au point d'utilisation. Le dispositif de production d'eau ultrapure a la capacité de fournir de l'eau ultrapure W ayant une valeur de résistance de 18 MΩ·cm ou plus, et une concentration en ions métalliques de 1 ng/l ou moins, spécifiquement de 0,1 ng/l ou moins. La solution d'ammoniac diluée est produite par ajout d'ammoniac provenant du dispositif d'alimentation en ammoniac à l'eau ultrapure W. Ce dispositif de production de solution d'ammoniac produit de préférence une solution d'ammoniac diluée ayant une concentration d'ammoniac (ion ammonium) de 100 mg/l ou moins, et spécifiquement de 50 mg/l ou moins. Ce dispositif de production de solution d'ammoniac est capable de produire une solution d'ammoniac à une concentration stable, et permet un excellent suivi des changements de concentration.
(JA)
アンモニア水溶液製造装置は、超純水製造装置から供給される超純水にアンモニア供給装置からアンモニアを供給して溶解させることで希薄アンモニア水溶液を製造し、このアンモニア水溶液をユースポイントに供給する。ここで、超純水製造装置は、抵抗値が18MΩ・cm以上で、金属イオン濃度が1ng/L以下、特に0.1ng/L以下の超純水Wを供給する能力を有するものである。そして、超純水Wにアンモニア供給装置からアンモニアを添加して希薄アンモニア水を製造する。このアンモニア水溶液製造装置は、アンモニア(アンモニウムイオン)の濃度が100mg/L以下、特に50mg/L以下の希薄アンモニア水の製造に好適である。かかるアンモニア水溶液製造装置は、安定した濃度でアンモニア水溶液を製造することができ、濃度の変更に対する追従性に優れている。
États désignés :
AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication :
japonais (
JA
)
Langue de dépôt :
japonais (
JA
)