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1. (WO2018146204) APPAREIL CONFIGURÉ POUR UN FLUX RADIANT SPECTRAL À ULTRAVIOLET EXTRÊME (VUV) AMÉLIORÉ ET SYSTÈME COMPRENANT L'APPAREIL
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N° de publication : WO/2018/146204 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/053199
Date de publication : 16.08.2018 Date de dépôt international : 08.02.2018
CIB :
H01J 37/02 (2006.01) ,H01J 37/28 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26
Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
28
avec faisceaux de balayage
Déposants :
JOST, Georg [DE/DE]; DE (US)
LEDL, Ludwig [DE/DE]; DE (US)
MUELLER, Bernhard G. [DE/DE]; DE (US)
TZENG, George [US/US]; US (US)
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
JOST, Georg; DE
LEDL, Ludwig; DE
MUELLER, Bernhard G.; DE
TZENG, George; US
Mandataire :
ZIMMERMANN & PARTNER PATENTANWÄLTE MBB; Josephspitalstr. 15 80331 München, DE
Données relatives à la priorité :
15/431,09813.02.2017US
Titre (EN) APPARATUS CONFIGURED FOR ENHANCED VACUUM ULTRAVIOLET (VUV) SPECTRAL RADIANT FLUX AND SYSTEM HAVING THE APPARATUS
(FR) APPAREIL CONFIGURÉ POUR UN FLUX RADIANT SPECTRAL À ULTRAVIOLET EXTRÊME (VUV) AMÉLIORÉ ET SYSTÈME COMPRENANT L'APPAREIL
Abrégé :
(EN) A charge control apparatus for controlling charge on a substrate in a vacuum chamber is described. The apparatus includes a light source emitting a beam of radiation having a divergence; a mirror con figured to reflect the beam of radiation, wherein a curvature of a mirror surface of the curved mirror is configured to reduce the divergence of the beam of radiation; and a mirror support configured to rotatably support the curved mirror, wherein a rotation of the mirror varies the direction of the beam of radiation.
(FR) L'invention concerne un appareil de commande de charge pour commander une charge sur un substrat dans une chambre sous vide. L'appareil comprend une source de lumière émettant un faisceau de rayonnement ayant une divergence; un miroir configuré pour réfléchir le faisceau de rayonnement, une courbure d'une surface de miroir du miroir incurvé étant configurée pour réduire la divergence du faisceau de rayonnement; et un support de miroir configuré pour supporter en rotation le miroir incurvé, une rotation du miroir variant la direction du faisceau de rayonnement.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)