Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018145972) INSTALLATION D'USINAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/145972 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/052407
Date de publication : 16.08.2018 Date de dépôt international : 31.01.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9
Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
Déposants :
MANZ AG [DE/DE]; Steigäckerstrasse 5 72768 Reutlingen, DE
Inventeurs :
CONTAG, Karsten; DE
Mandataire :
HOEGER, STELLRECHT & PARTNER PATENTANWÄLTE MBB; Uhlandstrasse 14 c 70182 Stuttgart, DE
Données relatives à la priorité :
10 2017 102 320.807.02.2017DE
Titre (EN) PROCESSING SYSTEM
(FR) INSTALLATION D'USINAGE
(DE) BEARBEITUNGSANLAGE
Abrégé :
(EN) The invention relates to a processing system, in particular an optical processing system, for a substrate body, comprising an exposure system having an exposure unit or a plurality of exposure units, a calibration system having at least one calibration camera for adjustment of the exposure system, a substrate carrier unit having a retaining device for the substrate body and a registration system having a registration camera or a plurality of registration cameras, wherein a position and/or alignment of the substrate body retained by the retaining device can be captured in at least one registration position of the substrate carrier unit by the one or by at least one registration camera, wherein the exposure system and the registration system can be easily coordinated with each other and the calibration system has a reference marking or a plurality of reference markings, each of which are arranged at a defined position relative to the at least one calibration camera, and the one or at least one reference marking can be captured by the one or at least one registration camera.
(FR) La présente invention concerne une installation d'usinage, en particulier une installation d'usinage optique pour un corps de substrat, comprenant : un système d'exposition à la lumière, doté d'une unité d'exposition à la lumière ou d'une pluralité d'unités d'exposition à la lumière ; un système d'étalonnage, doté d'au moins une caméra d'étalonnage destinée au réglage du système d'exposition à la lumière ; une unité de support de substrat, dotée d'un dispositif de maintien pour le corps de substrat ; et un système d'enregistrement, doté d'une caméra d'enregistrement ou d'une pluralité de caméras d'enregistrement, une position et/ou une orientation du corps de substrat maintenu par le dispositif de maintien, dans au moins une position d'enregistrement de l'unité de support de substrat, étant détectable par l'une ou au moins une caméra d'enregistrement. L'invention vise à ce que le système d'exposition à la lumière et le système d'enregistrement sont réglables l'un par rapport à l'autre d'une manière simple. Selon l'invention, le système d'étalonnage comporte un marquage de référence ou une pluralité de marquages de référence, lesquels sont respectivement disposés dans une position relative définie par rapport à l'au moins une caméra d'étalonnage et l'un ou au moins un marquage de référence de l'une ou d'au moins une caméra d'enregistrement est détectable.
(DE) Um eine Bearbeitungsanlage, insbesondere eine optische Bearbeitungsanlage, für einen Substratkörper, umfassend ein Belichtungssystem mit einer Belichtungseinheit oder mehreren Belichtungseinheiten, ein Kalibiersystem mit mindestens einer Kalibrierkamerazur Justierung des Belichtungssystems, eine Substratträgereinheit mit einer Haltevorrichtung für den Substratkörper und ein Registriersystem mit einer Registrierkamera oder mehreren Registrier- kameras, wobei eine Lage und/oder Ausrichtung des von der Haltevorrichtung gehaltenen Substratkörpers in zumindest einer Registrierposition der Substratträgereinheit von der einen oder von zumindest einer Registrierkamera erfassbar ist, so auszubilden, dass das Belichtungssystem und das Registriersystem in einfacher Weise aufeinander abstimmbar sind, wird vorgeschlagen, dass das Kalibriersystem eine Referenzmarkierung oder mehrere Referenzmarkierungen aufweist, welche jeweils in einer definierten Relativposition zu der mindestens einen Kalibrierkamera angeordnet sind,und dass die eine oder mindestens eine Referenzmarkierung von der einen oder mindestens einer Registrierkamera erfassbar ist.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)