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1. (WO2018145849) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF

Pub. No.:    WO/2018/145849    International Application No.:    PCT/EP2018/050640
Publication Date: Fri Aug 17 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Jan 12 00:59:59 CET 2018
IPC: G03F 7/20
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: BUTLER, Hans
VERVOORDELDONK, Michael, Johannes
WIJCKMANS, Maurice, Willem, Jozef, Etiënne
Title: APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract:
La présente invention concerne un appareil lithographique, l'appareil comprenant : un système de projection (PS; 200) conçu pour projeter un faisceau (B) de rayonnement à motifs sur un substrat (W); le système de projection comprenant une pluralité d'éléments optiques (200.1, 200.2); un cadre de capteur (220); un premier système de mesure de position (240) conçu pour mesurer une position de la pluralité d'éléments optiques par rapport au cadre de capteur; le cadre de capteur comprenant : - N sous-cadres (220.1, 220.2), N étant un nombre entier > 1, - un système d'accouplement (220.3) accouplant les N sous-cadres et - un second système de mesure de position (250) conçu pour déterminer une position relative des N sous-cadres.