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1. (WO2018145837) PROCÉDÉS ET APPAREIL PERMETTANT DE PRÉDIRE LES PERFORMANCES D'UN PROCÉDÉ DE MESURE, PROCÉDÉ DE MESURE, ET APPAREIL
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N° de publication : WO/2018/145837 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/050382
Date de publication : 16.08.2018 Date de dépôt international : 08.01.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01) ,G01N 21/47 (2006.01) ,G01N 21/956 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9
Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
17
Systèmes dans lesquels la lumière incidente est modifiée suivant les propriétés du matériau examiné
47
Dispersion, c. à d. réflexion diffuse
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95
caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
956
Inspection de motifs sur la surface d'objets
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
MATHIJSSEN, Simon, Gijsbert, Josephus; NL
ROOBOL, Sander, Bas; NL
LIN, Nan; NL
COENE, Willem, Marie, Julia, Marcel; NL
DEN BOEF, Arie, Jeffrey; NL
Mandataire :
WILLEKENS, Jeroen, Pieter, Frank; NL
Données relatives à la priorité :
17155453.809.02.2017EP
Titre (EN) METHODS AND APPARATUS FOR PREDICTING PERFORMANCE OF A MEASUREMENT METHOD, MEASUREMENT METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREIL PERMETTANT DE PRÉDIRE LES PERFORMANCES D'UN PROCÉDÉ DE MESURE, PROCÉDÉ DE MESURE, ET APPAREIL
Abrégé :
(EN) Target structures such as overlay gratings (Ta and Tb) are formed on a substrate (W) by a lithographic process. The first target is illuminated with a spot of first radiation (456a, Sa) and simultaneously the second target is illuminated with a spot of second radiation (456b, Sb). A sensor (418) detects at different locations, portions (460x-, 460x+) of said first radiation that have been diffracted in a first direction by features of the first target and portions (460y-, 460y+) of said second radiation that have been diffracted in a second direction by features of the second target. Asymmetry in X and Y directions can be detected simultaneously, reducing the time required for overlay measurements in X and Y. The two spots of radiation at soft x-ray wavelength can be generated simply by exciting two locations (710a, 710b) in a higher harmonic generation (HHG) radiation source or inverse Compton scattering source.
(FR) Selon la présente invention, des structures cibles, telles que des réseaux de recouvrement (Ta et Tb), sont formées sur un substrat (W) par un processus lithographique. La première cible est éclairée par un point d'un premier rayonnement (456a, Sa), et, simultanément, la seconde cible est éclairée par un point d'un second rayonnement (456b, Sb). Un capteur (418) détecte, à différents emplacements, des parties (460x-, 460x+) dudit premier rayonnement qui ont été diffractées dans une première direction par des éléments de la première cible, et des parties (460y-, 460y+) dudit second rayonnement qui ont été diffractées dans une seconde direction par des éléments de la seconde cible. Une asymétrie dans des directions X et Y peut être détectée simultanément, ce qui réduit le temps exigé pour des mesures de recouvrement dans les directions X et Y. Les deux points de rayonnement à une longueur d'onde de rayons X mous peuvent être générés simplement par excitation de deux emplacements (710a, 710b) dans une source de rayonnement à génération d'harmoniques supérieures (HHG) ou une source de diffusion Compton inverse.
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)