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1. (WO2018145803) PROCÉDÉS DE COMMANDE D'APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF

Pub. No.:    WO/2018/145803    International Application No.:    PCT/EP2017/083707
Publication Date: Fri Aug 17 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Dec 21 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 9/00
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: QUEENS, Rene, Marinus, Gerardus, Johan
HENKE, Wolfgang, Helmut
DONKERBROEK, Arend, Johannes
COTTAAR, Jeroen
Title: PROCÉDÉS DE COMMANDE D'APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract:
L'invention concerne un procédé de commande d'un appareil lithographique pour fabriquer une pluralité de dispositifs sur un substrat, le procédé comprenant : l'obtention d'une carte de paramètres représentant une variation de paramètre à travers le substrat par la mesure du paramètre au niveau d'une pluralité de points sur le substrat ; la décomposition de la carte de paramètres en une pluralité de composants, comprenant un premier composant de carte de paramètres représentant des variations de paramètre associées au motif de dispositif et un ou plusieurs autres composants de carte de paramètres représentant d'autres variations de paramètre ; la dérivation d’un facteur d'échelle, configuré pour corriger des erreurs dans la mesure de la variation de paramètre, à partir de mesures d'un second paramètre d'un substrat ; et la commande de l'appareil lithographique à l'aide de la carte de paramètres et du facteur d'échelle pour appliquer un motif de dispositif à de multiples emplacements sur le substrat.