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1. (WO2018145699) PROCÉDÉ PERMETTANT DE TEXTURER UNE SURFACE D'UN MATÉRIAU SEMI-CONDUCTEUR AINSI QUE DISPOSITIF PERMETTANT LA MISE EN ŒUVRE DUDIT PROCÉDÉ
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N° de publication : WO/2018/145699 N° de la demande internationale : PCT/DE2018/100110
Date de publication : 16.08.2018 Date de dépôt international : 08.02.2018
CIB :
H01L 31/0236 (2006.01) ,C25F 3/12 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
31
Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails
02
Détails
0236
Textures de surface particulières
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
F
PROCÉDÉS POUR LE TRAITEMENT D'OBJETS PAR ENLÈVEMENT ÉLECTROLYTIQUE DE MATIÈRE; APPAREILLAGES À CET EFFET
3
Attaque de surface ou polissage électrolytique
02
Attaque de surface
12
des matériaux semi-conducteurs
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
Déposants :
RENA TECHNOLOGIES GMBH [DE/DE]; Höhenweg 1 78148 Gütenbach, DE
Inventeurs :
KÜHNLEIN, Holger; DE
DÜMPELFELD, Wolfgang; DE
BURSCHIK, John; DE
STRAUB, Benedikt; DE
Mandataire :
HEYERHOFF GEIGER & PARTNER PATENTANWÄLTE PARTGMBB; Heiligenbreite 52 88662 Überlingen, DE
Données relatives à la priorité :
10 2017 102 632.009.02.2017DE
Titre (EN) METHOD FOR TEXTURING A SURFACE OF A SEMICONDUCTOR MATERIAL AND DEVICE FOR CARRYING OUT THE METHOD
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE TEXTURER UNE SURFACE D'UN MATÉRIAU SEMI-CONDUCTEUR AINSI QUE DISPOSITIF PERMETTANT LA MISE EN ŒUVRE DUDIT PROCÉDÉ
(DE) VERFAHREN ZUM TEXTURIEREN EINER OBERFLÄCHE EINES HALBLEITERMATERIALS SOWIE VORRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS
Abrégé :
(EN) Disclosed is a method for texturing at least one portion (4) of a surface of a semiconductor material (2), according to which the at least one portion (4) of the surface is brought into contact with an etching solution (6); the at least one portion (4) of the surface is electrically conductively connected to a plus pole (9) of a current source (8) and is used as a positive electrode (16); a negative electrode (14) located in the etching solution (6) is electrically conductively connected to a minus pole (10) of the current source (18) and electric current is carried from the plus pole (9) to the minus pole (10) and the at least one portion (4) of the surface is thus electrochemically etched. Also disclosed is a device (1; 30; 70) for carrying out said method.
(FR) L'invention concerne un procédé permettant de texturer au moins une partie (4) d'une surface d'un matériau semi-conducteur (2), selon lequel la ou les parties (4) de la surface sont mises en contact avec une solution d'attaque (6), la ou les parties (4) de la surface sont connectées de manière électroconductrice à un pôle positif (9) d'une source de courant (8) et utilisées en tant qu'électrode positive (16), une électrode négative (14) agencée dans la solution d'attaque (6) est connectée de manière électroconductrice à un pôle négatif (10) de la source de courant (18), et guide un courant électrique du pôle positif (9) vers le pôle négatif (10), de sorte que la ou les parties (4) de la surface sont soumises à une attaque électrochimique. L'invention concerne également un dispositif (1; 30; 70) permettant la mise en œuvre du procédé.
(DE) Verfahren zum Texturieren wenigstens eines Teils (4) einer Oberfläche eines Halbleitermaterials (2), bei welchem der wenigstens eine Teil (4) der Oberfläche mit einer Ätzlösung (6) in Kontakt gebracht wird; der wenigstens eine Teil (4) der Oberfläche elektrisch leitend mit einem Pluspol (9) einer Stromquelle (8) verbunden und als positive Elektrode (16) verwendet wird; eine in der Ätzlösung (6) angeordnete negative Elektrode (14) elektrisch leitend mit einem Minuspol (10) der Stromquelle (18) verbunden wird und elektrischer Strom von dem Pluspol (9) zu dem Minuspol (10) geführt und auf diese Weise der wenigstens eine Teil (4) der Oberfläche elektrochemisch geätzt wird, sowie Vorrichtung (1; 30; 70) zur Durchführung des Verfahrens.
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)