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1. (WO2018144959) ESPACEMENT MULTI-COLONNES POUR PHOTOMASQUE ET INSPECTION DE RÉTICULE ET VÉRIFICATION D'IMPRESSION DE TRANCHE
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N° de publication : WO/2018/144959 N° de la demande internationale : PCT/US2018/016761
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 03.02.2018
CIB :
G03F 9/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs :
HAYNES, Robert; US
CHILESE, Frank; US
PREIL, Moshe; US
Mandataire :
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M. N; US
Données relatives à la priorité :
15/879,12024.01.2018US
62/454,80705.02.2017US
Titre (EN) MULTI-COLUMN SPACING FOR PHOTOMASK AND RETICLE INSPECTION AND WAFER PRINT CHECK VERIFICATION
(FR) ESPACEMENT MULTI-COLONNES POUR PHOTOMASQUE ET INSPECTION DE RÉTICULE ET VÉRIFICATION D'IMPRESSION DE TRANCHE
Abrégé :
(EN) A multi-column assembly for a scanning electron microscopy (SEM) system is disclosed. The multi-column assembly includes a plurality of electron-optical columns arranged in an array defined by one or more spacings. Each electron-optical column includes one or more electron-optical elements. The plurality of electron-optical columns is configured to characterize one or more field areas on a surface of a sample secured on a stage. The number of electron-optical columns in the plurality of electron-optical columns equals an integer number of inspection areas in a field area of the one or more field areas. The one or more spacings of the plurality of electron-optical columns correspond to one or more dimensions of the inspection areas.
(FR) L'invention concerne un ensemble multi-colonnes pour un système de microscopie électronique à balayage (MEB). L'ensemble multi-colonnes comprend une pluralité de colonnes électro-optiques disposées dans un réseau défini par un ou plusieurs espacements. Chaque colonne électro-optique comprend un ou plusieurs éléments électro-optiques. La pluralité de colonnes électro-optiques est configurée pour caractériser une ou plusieurs zones de champ sur une surface d'un échantillon fixé sur un étage. Le nombre de colonnes électro-optiques dans la pluralité de colonnes électro-optiques est égal à un nombre entier de zones d'inspection dans une zone de champ de la ou des zones de champ. Le ou les espacements de la pluralité de colonnes électro-optiques correspondent à une ou plusieurs dimensions des zones d'inspection.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)