Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018144613) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE COMMANDE RADIALE ET AZIMUTALE D'UNIFORMITÉ DE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/144613 N° de la demande internationale : PCT/US2018/016261
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 31.01.2018
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
KOBAYASHI, Satoru; US
SUGAI, Hideo; JP
KALNIN, Nikolai; US
PARK, Soonam; US
TRAN, Toan; US
LUBOMIRSKY, Dmitry; US
Mandataire :
LINDEMANN, John; US
BERNARD, Eugene J.; US
Données relatives à la priorité :
15/424,48803.02.2017US
Titre (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR RADIAL AND AZIMUTHAL CONTROL OF PLASMA UNIFORMITY
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE COMMANDE RADIALE ET AZIMUTALE D'UNIFORMITÉ DE PLASMA
Abrégé :
(EN) A system includes a process chamber, a housing that defines a waveguide cavity, and a first conductive plate within the housing. The first conductive plate faces the process chamber. The system also includes one or more adjustment devices that can adjust at least a position of the first conductive plate, and a second conductive plate, coupled with the housing, between the waveguide cavity and the process chamber. Electromagnetic radiation can propagate from the waveguide cavity into the process chamber through apertures in the second conductive plate. The system also includes a dielectric plate that seals off the process chamber from the waveguide cavity, and one or more electronics sets that transmit the electromagnetic radiation into the waveguide cavity. A plasma forms when at least one process gas is within the chamber, and the electromagnetic radiation propagates into the process chamber from the waveguide cavity.
(FR) L'invention concerne un système comprenant une chambre de traitement, un boîtier qui définit une cavité de guide d'ondes, et une première plaque conductrice à l'intérieur du boîtier. La première plaque conductrice fait face à la chambre de traitement. Le système comprend également un ou plusieurs dispositifs de réglage qui peuvent ajuster au moins une position de la première plaque conductrice, et une seconde plaque conductrice, couplée au boîtier, entre la cavité de guide d'ondes et la chambre de traitement. Un rayonnement électromagnétique peut se propager de la cavité de guide d'ondes dans la chambre de traitement à travers des ouvertures dans la seconde plaque conductrice. Le système comprend également une plaque diélectrique qui scelle la chambre de traitement à partir de la cavité de guide d'ondes, et un ou plusieurs ensembles électroniques qui transmettent le rayonnement électromagnétique dans la cavité de guide d'ondes. Un plasma se forme lorsqu'au moins un gaz de traitement se trouve à l'intérieur de la chambre, et le rayonnement électromagnétique se propage dans la chambre de traitement à partir de la cavité de guide d'ondes.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)