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1. (WO2018144446) MÉCANISME DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT DE NIVEAU SOUS-NANOMÉTRIQUE

Pub. No.:    WO/2018/144446    International Application No.:    PCT/US2018/015924
Publication Date: Fri Aug 10 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Jan 31 00:59:59 CET 2018
IPC: H01L 21/67
H01L 21/02
Applicants: PLANAR SEMICONDUCTOR, INC.
Inventors: RANDHAWA, Rubinder S.
CHRISTOV, Harry
Title: MÉCANISME DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT DE NIVEAU SOUS-NANOMÉTRIQUE
Abstract:
Divers modes de réalisation de la présente invention comprennent des appareils pour nettoyer et sécher un substrat et des procédés de fonctionnement des appareils. Dans un mode de réalisation, un appareil donné à titre d'exemple comprend un support de substrat vertical pour maintenir et faire tourner le substrat à diverses vitesses. Un blindage interne et un blindage externe, lorsqu'ils sont dans une position fermée, entourent le support de substrat vertical pendant le fonctionnement de l'appareil. Chacun parmi le blindage interne et le blindage externe peut fonctionner indépendamment dans au moins une parmi la vitesse de rotation et la direction à partir de l'autre blindage. Un jet de pulvérisation côté avant et un jet de pulvérisation côté arrière sont agencés pour pulvériser au moins un fluide sur les deux côtés du substrat et des bords du substrat sensiblement simultanément. Un flux de gaz, combiné à une vitesse de rotation élevée des blindages et du substrat, facilite le séchage du substrat. L'invention concerne également d'autres appareils et des procédés de formation des appareils.