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1. (WO2018144374) SYSTÈME DE POLARISATION DE PIÈCE ACCORDABLE DANS UN RÉACTEUR À PLASMA
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N° de publication : WO/2018/144374 N° de la demande internationale : PCT/US2018/015688
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 29.01.2018
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
KOH, Travis; US
KRAUS, Philip Allan; US
DORF, Leonid; US
GOPALRAJA, Prabu; US
Mandataire :
TABOADA, Alan; US
MOSER, JR., Raymond R.; US
LINARDAKIS, Leonard P.; US
Données relatives à la priorité :
15/424,40503.02.2017US
Titre (EN) SYSTEM FOR TUNABLE WORKPIECE BIASING IN A PLASMA REACTOR
(FR) SYSTÈME DE POLARISATION DE PIÈCE ACCORDABLE DANS UN RÉACTEUR À PLASMA
Abrégé :
(EN) Systems and methods for tunable workpiece biasing in a plasma reactor are provided herein. In some embodiments, a system includes: a plasma chamber that performs plasma processing on a workpiece, a first pulsed voltage source, coupled directly to a workpiece, a second pulsed voltage source, coupled capacitively to the workpiece, and a biasing controller that independently controls the first pulsed voltage source and the second pulsed voltage source based on one or more parameters of the first pulsed voltage source and the second pulsed voltage source in order to tailor ion energy distribution of the flux of ions directed to the workpiece.
(FR) L'invention concerne des systèmes et des procédés de polarisation de pièce accordable dans un réacteur à plasma. Selon certains modes de réalisation, un système comprend : une chambre à plasma qui effectue un traitement au plasma sur une pièce, une première source de tension pulsée, couplée directement à une pièce, une seconde source de tension pulsée, couplée de manière capacitive à la pièce, et un dispositif de commande de polarisation qui commande indépendamment la première source de tension pulsée et la seconde source de tension pulsée sur la base d'un ou plusieurs paramètres de la première source de tension pulsée et de la seconde source de tension pulsée afin d'adapter la distribution d'énergie ionique du flux d'ions dirigés vers la pièce.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)