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1. (WO2018143458) DISPOSITIF À PLASMA EN MILIEU LIQUIDE

Pub. No.:    WO/2018/143458    International Application No.:    PCT/JP2018/003831
Publication Date: Fri Aug 10 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Feb 06 00:59:59 CET 2018
IPC: H05H 1/24
B01J 19/08
C02F 1/48
Applicants: NIHON SPINDLE MANUFACTURING CO., LTD.
日本スピンドル製造株式会社
Inventors: ONISHI Keiichiro
大西慶一郎
ASAMI Keiichi
浅見圭一
Title: DISPOSITIF À PLASMA EN MILIEU LIQUIDE
Abstract:
L'invention concerne un dispositif à plasma en milieu liquide qui a une configuration de dispositif simplifiée et pour lequel l'efficacité de traitement est améliorée. Un dispositif à plasma en milieu liquide 1 comprend une partie de canal d'écoulement tubulaire 10 dans laquelle s'écoule un liquide, et une partie de génération de cavitation A ainsi qu'une partie d'application de tension B disposées sur la partie de canal d'écoulement tubulaire 10. La partie de génération de cavitation A provoque une cavitation dans le liquide à l'intérieur de la partie de canal d'écoulement tubulaire 10, et la partie d'application de tension B est disposée dans la partie de canal d'écoulement tubulaire 10 et applique une tension au liquide dans lequel une cavitation s'est produite de façon à générer un plasma. La partie de génération de cavitation A est constituée par une partie de diaphragme qui a un diamètre interne plus petit que d'autres emplacements dans la partie de canal d'écoulement tubulaire 10, et la partie de diaphragme est composée d'une surface inclinée côté amont E qui est une surface inclinée disposée sur le côté amont du site le plus étroit de la partie de diaphragme, et une surface inclinée côté aval F qui est une surface inclinée disposée sur le côté aval du site le plus étroit de la partie de diaphragme.