Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018143370) FILM ANTIREFLET, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM ANTIREFLET, MOULE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOULE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/143370 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/003480
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 01.02.2018
CIB :
C25D 11/04 (2006.01) ,C25D 11/12 (2006.01) ,C25D 11/16 (2006.01) ,C25D 11/18 (2006.01) ,C25D 11/24 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11
Revêtements électrolytiques par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02
Anodisation
04
de l'aluminium ou de ses alliages
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11
Revêtements électrolytiques par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02
Anodisation
04
de l'aluminium ou de ses alliages
12
Anodisation en plusieurs étapes, p.ex. dans différents bains
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11
Revêtements électrolytiques par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02
Anodisation
04
de l'aluminium ou de ses alliages
16
Prétraitement
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11
Revêtements électrolytiques par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02
Anodisation
04
de l'aluminium ou de ses alliages
18
Post-traitement, p.ex. bouchage des pores
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
25
PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
D
PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11
Revêtements électrolytiques par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02
Anodisation
04
de l'aluminium ou de ses alliages
18
Post-traitement, p.ex. bouchage des pores
24
Post-traitement chimique
Déposants :
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Inventeurs :
林 秀和 HAYASHI Hidekazu; --
田口 登喜生 TAGUCHI Tokio; --
島村 幸男 SHIMAMURA Yukio; --
北川 智之 KITAGAWA Tomoyuki; --
Mandataire :
奥田 誠司 OKUDA Seiji; JP
Données relatives à la priorité :
2017-01855503.02.2017JP
Titre (EN) ANTIREFLECTIVE FILM, METHOD FOR MANUFACTURING ANTIREFLECTIVE FILM, MOLD, AND METHOD FOR MANUFACTURING MOLD
(FR) FILM ANTIREFLET, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM ANTIREFLET, MOULE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOULE
(JA) 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、型および型の製造方法
Abrégé :
(EN) A method for manufacturing a mold (100) includes: a step (a) for preparing an aluminum substrate (12) subjected to a mechanical mirror-finishing process; a step (b) for forming a plurality of recesses (12a) in a surface (12s) of the aluminum substrate by spraying a substantially spherical projection material to the surface of the aluminum substrate, the projection material including alumina particles and having an average particle diameter of 10 µm to 40 µm; a step (c) for forming an inorganic-material layer (16) on the surface of the aluminum substrate after the step (b) and forming an aluminum film (18) on the inorganic-material layer, thereby fabricating a mold substrate (10); and, after the step (c), a step for anodizing the surface of the aluminum film, and a step for bringing a porous alumina layer into contact with an etching solution.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un moule (100), qui comprend les étapes consistant à : (a) préparer un substrat d'aluminium (12) ayant été soumis à un processus mécanique de finition spéculaire ; (b) former une pluralité de creux (12a) dans une surface (12s) du substrat d'aluminium par la pulvérisation d'un matériau de projection sensiblement sphérique sur la surface du substrat d'aluminium, le matériau de projection comprenant des particules d'alumine et présentant un diamètre moyen de particule compris entre 10 µm et 40 µm ; (c) former une couche de matériau inorganique (16) sur la surface du substrat d'aluminium après l'étape (b), et former un film d'aluminium (18) sur la couche de matériau inorganique afin de fabriquer un substrat de moule (10) ; et, après l'étape (c), anodiser la surface du film d'aluminium et mettre une couche d'alumine poreuse en contact avec une solution de gravure.
(JA) 型(100)の製造方法は、機械的な鏡面加工が施されたアルミニウム基材(12)を用意する工程(a)と、アルミニウム基材の表面に、略球状であり、アルミナ粒子を含み、平均粒径が10μm以上40μm以下である投射材を吹き付けることによって、複数の凹部(12a)をアルミニウム基材の表面(12s)に形成する工程(b)と、工程(b)の後に、アルミニウム基材の表面に無機材料層(16)を形成し、無機材料層の上にアルミニウム膜(18)を形成することによって、型基材(10)を作製する工程(c)と、工程(c)の後に、アルミニウム膜の表面を陽極酸化する工程およびポーラスアルミナ層をエッチング液に接触させる工程とを包含する。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)