WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2018143293) ENSEMBLE D'ENCRES POUR STÉRÉOLITHOGRAPHIE, ARTICLE STÉRÉOLITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ARTICLE STÉRÉOLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/143293 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/003269
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 31.01.2018
CIB :
B29C 64/268 (2017.01) ,B33Y 10/00 (2015.01) ,B33Y 70/00 (2015.01) ,C08F 2/40 (2006.01) ,C08F 2/50 (2006.01) ,C08F 220/12 (2006.01) ,C08F 290/06 (2006.01)
Déposants : MAXELL HOLDINGS, LTD.[JP/JP]; 1 Koizumi, Oyamazaki, Oyamazaki-cho, Otokuni-gun, Kyoto 6188525, JP
Inventeurs : KITO, Katsuyuki; JP
IZUMO, Taeko; JP
Mandataire : SAMEJIMA, Mutsumi; JP
MORIZUMI, Ken-Ichi; JP
Données relatives à la priorité :
2017-01612231.01.2017JP
2017-01612631.01.2017JP
Titre (EN) INK SET FOR STEREOLITHOGRAPHY, STEREOLITHOGRAPHIC ARTICLE, AND METHOD FOR PRODUCING STEREOLITHOGRAPHIC ARTICLE
(FR) ENSEMBLE D'ENCRES POUR STÉRÉOLITHOGRAPHIE, ARTICLE STÉRÉOLITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ARTICLE STÉRÉOLITHOGRAPHIQUE
(JA) 光造形用インクセット、光造形品、及び、光造形品の製造方法
Abrégé : front page image
(EN) The present invention relates to an ink set for stereolithography which is provided with a model material composition and a support material composition. The model material composition includes monofunctional ethylenically unsaturated monomers (A) and polyfunctional ethylenically unsaturated monomers (B). The monofunctional ethylenically unsatured monomers (A) and/or the polyfunctional ethylenically unsaturated monomers (B) are provided with hydroxyl groups or amino groups. The total molar fraction of the hydroxyl groups and the amino groups is 5-30% of the total amount of the monofunctional ethylenically unsaturated monomers (A) and the polyfunctional ethylenically unsatured monomers (B). Furthermore, the model material composition includes: ethylenically unsaturated monomers (C) of which the homopolymer has a glass transition temperature in the range of 25-120˚C inclusive; ethylenically unsaturated monomers (D) of which the homopolymer has a glass transition temperature of at least -65˚C but less than 25˚C; a bifunctional acrylate oligomer (E) having a weight average molecular weight in the range of 800-10,000 inclusive; and an acyl phosphine oxide compound. The content of bifunctional or higher acrylate compounds is not more than 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the whole model material composition. The support material composition includes, with respect to 100 parts by weight of the whole support material composition, 20-50 parts by weight of water-soluble monofunctional ethylenically unsaturated monomers (a), 20-49 parts by weight of polyalkylene glycol (b) including oxyethylene groups and/or oxypropylene groups, 35 or fewer parts by weight of a water-soluble organic solvent (c); and a photopolymerization initiator (d).
(FR) La présente invention concerne un ensemble d'encres pour stéréolithographie qui est pourvu d'une composition de matériau modèle et d'une composition de matériau de support. La composition de matériau modèle comprend des monomères à insaturation éthylénique monofonctionnels (A) et des monomères à insaturation éthylénique polyfonctionnels (B). Les monomères à insaturation éthylénique monofonctionnels (A) et/ou les monomères à insaturation éthylénique polyfonctionnels (B) sont pourvus de groupes hydroxyle ou de groupes amino. La fraction molaire totale des groupes hydroxyle et des groupes amino représente 5 à 30 % de la quantité totale des monomères à insaturation éthylénique monofonctionnels (A) et des monomères à insaturation éthylénique polyfonctionnels (B). En outre, la composition de matériau modèle comprend : des monomères à insaturation éthylénique (C) dont l'homopolymère a une température de transition vitreuse dans la plage de 25 à 120 °C inclus ; des monomères à insaturation éthylénique (D) dont l'homopolymère a une température de transition vitreuse d'au moins 65 °C mais inférieure à 25 °C ; un oligomère acrylate bifonctionnel (E) ayant un poids moléculaire moyen en poids dans la plage de 800 à 10 000 inclus ; et un composé oxyde d'acyl phosphine. La teneur en composés acrylates bifonctionnels ou à fonctionnalité supérieure n'est pas supérieure à 15 parties en poids par rapport à 100 parties en poids de la totalité de la composition de matériau modèle. La composition de matériau de support comprend, par rapport à 100 parties en poids de la totalité de la composition de matériau de support, 20 à 50 parties en poids de monomères à insaturation éthylénique monofonctionnels hydrosolubles (a), 20 à 49 parties en poids de polyalkylène glycol (b) comprenant des groupes oxyéthylène et/ou des groupes oxypropylène, au plus 35 parties en poids d'un solvant organique soluble dans l'eau (c) ; et un initiateur de photopolymérisation (d).
(JA) 本発明は、モデル材用組成物が、単官能エチレン性不飽和単量体(A)及び多官能エチレン性不飽和単量体(B)を含み、前記単官能エチレン性不飽和単量体(A)及び前記多官能エチレン性不飽和単量体(B)のうち少なくとも一方が、ヒドロキシル基又はアミノ基を有し、前記ヒドロキシル基及び前記アミノ基の合計モル分率が、前記単官能エチレン性不飽和単量体(A)及び前記多官能エチレン性不飽和単量体(B)の総量に対して5~30%であり、または、モデル材用組成物が、ホモポリマーのガラス転移温度が25℃以上120℃以下のエチレン性不飽和単量体(C)と、ホモポリマーのガラス転移温度が-65℃以上25℃未満のエチレン性不飽和単量体(D)と、重量平均分子量が800以上10,000以下の2官能アクリレートオリゴマー(E)と、アシルフォスフィンオキサイド化合物とを含有し、かつ、2官能以上のアクリレート化合物の含有量が、前記モデル材用組成物全体100重量部に対して15重量部以下であり、サポート材用組成物が、該サポート材用組成物全体100重量部に対して、20~50重量部の水溶性単官能エチレン性不飽和単量体(a)と、20~49重量部のオキシエチレン基及び/又はオキシプロピレン基を含むポリアルキレングリコール(b)と、35重量部以下の水溶性有機溶剤(c)と、光重合開始剤(d)とを含有する光造形用インクセットに関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)