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1. (WO2018142888) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE MÉDICAMENT LIQUIDE
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N° de publication : WO/2018/142888 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/000741
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 15.01.2018
CIB :
H01L 21/027 (2006.01) ,B08B 3/08 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/32 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08
NETTOYAGE
B
NETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
3
Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation ou la présence d'un liquide ou de vapeur d'eau
04
Nettoyage impliquant le contact avec un liquide
08
le liquide ayant un effet chimique ou dissolvant
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26
Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
30
Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
32
Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs
Déposants :
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs :
上村 哲也 KAMIMURA Tetsuya; JP
Mandataire :
渡辺 望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
三和 晴子 MIWA Haruko; JP
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
Données relatives à la priorité :
2017-01682301.02.2017JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID MEDICINE AND DEVICE FOR MANUFACTURING LIQUID MEDICINE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE MÉDICAMENT LIQUIDE
(JA) 薬液の製造方法、及び、薬液の製造装置
Abrégé :
(EN) The present invention addresses the problem of providing a method for manufacturing a liquid medicine, the method being capable of manufacturing a liquid medicine excellent in suppressing the occurrence of defects. The method for manufacturing a liquid medicine of the present invention manufactures a liquid medicine containing an organic solvent by using a manufacturing apparatus, and comprises a step A for washing the production apparatus with a washing liquid and a step B for taking out the washing liquid from the manufacturing apparatus, and further comprises a preparation step for, after carrying out the step A and the step B, performing repeatedly the step A and the step B until the washing liquid taken out from the manufacturing apparatus satisfies the condition 1 below, and a production step for producing the liquid medicine in the manufacturing apparatus. Condition 1: after applying the washing liquid onto a substrate, variation in densities of particles having a particle diameter of 20 nm or less on the substrate before and after application of the washing liquid is 0.5 particles/cm2 or less.
(FR) La présente invention aborde le problème de la réalisation d'un procédé de fabrication d'un médicament liquide, le procédé étant apte à fabriquer un médicament liquide qui est excellent en termes de suppression de l'apparition de défauts. Le procédé de fabrication d'un médicament liquide selon la présente invention permet de fabriquer un médicament liquide contenant un solvant organique en utilisant un appareil de fabrication, et comprend une étape A de lavage de l'appareil de production avec un liquide de lavage et une étape B d'extraction du liquide de lavage de l'appareil de fabrication, et comprend en outre une étape de préparation pour, après avoir mené à bien l'étape A et l'étape B, exécuter de manière répétitive l'étape A et l'étape B jusqu'à ce que le liquide de lavage extrait de l'appareil de fabrication satisfait la condition 1 ci-dessous, et une étape de production destinée à produire le médicament liquide dans l'appareil de fabrication. Condition 1 : après application du liquide de lavage sur un substrat, la variation des densités des particules ayant un diamètre de particule inférieur ou égal à 20 nm sur le substrat avant et après l'application du liquide de lavage est inférieure ou égale à 0,5 particule/cm2.
(JA) 本発明は、優れた欠陥抑制性能を有する薬液を製造することができる薬液の製造方法を提供することを課題とする。本発明の薬液の製造方法は、製造装置を用いて有機溶剤を含有する薬液を製造する、薬液の製造方法であって、洗浄液を用いて製造装置を洗浄する工程Aと、製造装置から、洗浄液を取り出す工程Bと、を有し、工程A、及び、工程Bを行った後、製造装置から取り出した洗浄液が下記条件1を満たすまで、工程A、及び、工程Bを繰り返して実施する、準備工程と、製造装置にて、薬液を調製する、調製工程と、を有する。条件1:洗浄液を基板上に塗布し、洗浄液の塗布前後での基板上における20nm以下の粒子径のパーティクルの密度の変化が0.5個/cm以下であること。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)