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1. (WO2018142623) PROCÉDÉ DE FORMATION D'ÉVIDEMENT DE TAMPON DE POLISSAGE ET TAMPON DE POLISSAGE
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N° de publication : WO/2018/142623 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/004259
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 06.02.2017
CIB :
B24B 37/26 (2012.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24
MEULAGE; POLISSAGE
B
MACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
37
Machines ou dispositifs de rodage; Accessoires
11
Outils de rodage
20
Tampons de rodage pour travailler les surfaces planes
26
caractérisés par la forme ou le profil de la surface du tampon de rodage, p.ex. rainurée
Déposants :
株式会社大輝 DAIKI CO.,LTD. [JP/JP]; 静岡県静岡市葵区辰起町10-16 10-16, Tatsukicho, Aoi-ku, Shizuoka-shi, Shizuoka 4200874, JP
Inventeurs :
大石 邦晴 OISHI Kuniharu; JP
海野 達広 UNNO Tatsuhiro; JP
Mandataire :
久米川 正光 KUMEGAWA Masamitsu; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) POLISHING PAD RECESS FORMING METHOD AND POLISHING PAD
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'ÉVIDEMENT DE TAMPON DE POLISSAGE ET TAMPON DE POLISSAGE
(JA) ポリッシングバッドの凹部形成方法およびポリッシングパッド
Abrégé :
(EN) [Problem] To provide a high-quality polishing pad that satisfies a user's demand regarding recesses. [Solution] First, a tool (6) that has a projected shape conforming to the shape of a recess to be formed on the front surface of a polishing pad (7) is arranged on a work surface (2a). Then, the polishing pad (7) is arranged on the work surface (2a) on which the tool (6) has been arranged. The polishing pad (7) is sucked from the back surface via a suction hole (2b), and the front surface raised in accordance with the projected shape of the tool (6) is partially removed in the thickness direction while bending the polishing pad (7) which is supported in the state of being suspended by the projected part of the tool (6). Thus, a recess is formed in the front surface of the polishing pad (7).
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de produire un tampon de polissage de qualité élevée qui satisfait à la demande d'un utilisateur concernant des évidements. La solution selon l'invention porte sur un outil (6), qui possède une forme projetée se conformant à la forme d'un évidement à former sur la surface avant d'un tampon de polissage (7), est d'abord disposé sur une surface de travail (2a). Ensuite, le tampon de polissage (7) est disposé sur la surface de travail (2a) sur laquelle l'outil (6) a été disposé. Le tampon de polissage (7) est aspiré à partir de la surface arrière par l'intermédiaire d'un trou d'aspiration (2b), et la surface avant élevée en fonction de la forme projetée de l'outil (6) est partiellement retirée dans le sens de l'épaisseur tout en pliant le tampon de polissage (7) qui est maintenu dans l'état suspendu par la partie projetée de l'outil (6). Ainsi, un évidement est formé dans la surface avant du tampon de polissage (7).
(JA) [課題]凹部に関するユーザの要求に応えた高品質なポリッシングパッドを提供する。 [解決手段]まず、ポリッシングパッド(7)の表面に形成すべき凹部の形状に対応した凸形状を有する治具(6)を作業面(2a)上に配置する。つぎに、ポリッシングパッド(7)を治具(6)が配置された作業面(2a)上に配置する。そして、吸引孔(2b)を介してポリッシングパッド(7)を裏面より吸引し、治具の突出部(6)によって浮き上がった状態で支持されたポリッシングパッド(7)を撓ませながら、治具(6)の凸形状に応じて隆起した表面を厚さ方向に部分的に除去する。これによって、ポリッシングパッド(7)の表面に凹部が形成される。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)