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1. (WO2018142541) DISPOSITIF DE NETTOYAGE DESTINÉ À UN APPAREIL DE TIRAGE DE MONOCRISTAL
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N° de publication : WO/2018/142541 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/003797
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 02.02.2017
CIB :
C30B 15/32 (2006.01) ,C30B 29/06 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
30
CROISSANCE DES CRISTAUX
B
CROISSANCE DES MONOCRISTAUX; SOLIDIFICATION UNIDIRECTIONNELLE DES MATÉRIAUX EUTECTIQUES OU DÉMIXTION UNIDIRECTION- NELLE DES MATÉRIAUX EUTECTOÏDES; AFFINAGE DES MATÉRIAUX PAR FUSION DE ZONE; PRODUCTION DE MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; MONOCRISTAUX OU MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; POST-TRAITEMENT DE MONOCRISTAUX OU DE MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; APPAREILLAGES À CET EFFET
15
Croissance des monocristaux par tirage hors d'un bain fondu, p.ex. méthode de Czochralski
32
Porte-germe, p.ex. mandrins
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
30
CROISSANCE DES CRISTAUX
B
CROISSANCE DES MONOCRISTAUX; SOLIDIFICATION UNIDIRECTIONNELLE DES MATÉRIAUX EUTECTIQUES OU DÉMIXTION UNIDIRECTION- NELLE DES MATÉRIAUX EUTECTOÏDES; AFFINAGE DES MATÉRIAUX PAR FUSION DE ZONE; PRODUCTION DE MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; MONOCRISTAUX OU MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; POST-TRAITEMENT DE MONOCRISTAUX OU DE MATÉRIAUX POLYCRISTALLINS HOMOGÈNES DE STRUCTURE DÉTERMINÉE; APPAREILLAGES À CET EFFET
29
Monocristaux ou matériaux polycristallins homogènes de structure déterminée caractérisés par leurs matériaux ou par leur forme
02
Eléments
06
Silicium
Déposants :
株式会社SUMCO SUMCO CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区芝浦一丁目2番1号 2-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058634, JP
Inventeurs :
沖田 憲治 OKITA Kenji; JP
Mandataire :
志賀 正武 SHIGA Masatake; JP
寺本 光生 TERAMOTO Mitsuo; JP
五十嵐 光永 IGARASHI Koei; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) CLEANING DEVICE FOR MONOCRYSTAL PULLING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE DESTINÉ À UN APPAREIL DE TIRAGE DE MONOCRISTAL
(JA) 単結晶引上装置のクリーニング装置
Abrégé :
(EN) A cleaning device 10 for cleaning the inside of a monocrystal pulling apparatus 1 comprises a main tube part 11 which can be inserted into a pull chamber 1a, and a wire cleaning mechanism 13 which is provided at the upper portion of the main tube part and is for cleaning a pulling wire W to be inserted into the main tube part, wherein the main tube part is provided with a continuous extension mechanism that enables a tightly sealed connection by adding and extending a plurality of coupling tube parts 11A-11D in the axial direction, whereby re-adhesion of powder dust is prevented and wire cleaning is thereby efficiently performed.
(FR) L'invention concerne un dispositif de nettoyage (10) destiné à nettoyer l'intérieur d'un appareil de tirage de monocristal (1), comprenant une partie de tube principal (11), qui peut être insérée dans une chambre de tirage (1a), et un mécanisme de nettoyage de fil (13), qui est disposé au niveau de la portion supérieure de la partie de tube principal et qui est destiné à nettoyer un fil de tirage (W) devant être inséré dans la partie de tube principal, la partie de tube principal étant pourvue d'un mécanisme d'extension continue qui permet une connexion étroitement étanche par l'ajout et l'extension d'une pluralité de parties de tube d'accouplement (11A-11D) dans la direction axiale, ce qui permet d'empêcher une ré-adhérence de la poussière de poudre et d'effectuer efficacement le nettoyage de fil.
(JA) 単結晶引上装置1内をクリーニングするクリーニング装置10であって、プルチャンバ1a内に挿入可能な主筒部11と、主筒部の上部に、主筒部内に挿通される引き上げ用のワイヤーWをクリーニングするワイヤークリーニング機構13を備え、主筒部が、複数の継筒部11A~11Dを軸方向に継ぎ足して密閉接続を可能とする継続延伸機構を備えることで、粉塵の再付着を防止して効率よくワイヤークリーニングをおこなう。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)