Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2018142464) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DESTINÉ À UN MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DESTINÉ À UN ÉLÉMENT SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE

Pub. No.:    WO/2018/142464    International Application No.:    PCT/JP2017/003409
Publication Date: Fri Aug 10 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Feb 01 00:59:59 CET 2017
IPC: C23C 14/04
H01L 51/50
H05B 33/10
Applicants: SAKAI DISPLAY PRODUCTS CORPORATION
堺ディスプレイプロダクト株式会社
Inventors: NISHIDA, Koshi
西田 光志
SAKIO, Susumu
崎尾 進
KISHIMOTO, Katsuhiko
岸本 克彦
Title: PROCÉDÉ DE PRODUCTION DESTINÉ À UN MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DESTINÉ À UN ÉLÉMENT SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE
Abstract:
L’invention concerne un procédé de production destiné à un masque de dépôt en phase vapeur (100) comprenant une couche de résine (10) et un corps métallique magnétique (20) formé sur la couche de résine (10), et comprenant : (A) une étape de préparation du corps métallique magnétique (20) ayant au moins une première ouverture (25), (B) une étape de préparation d'un substrat (60), (C) une étape d'application d'une solution contenant un matériau de résine ou un vernis du matériau de résine sur une surface du substrat (60), puis la réalisation d'un traitement thermique, pour former la couche de résine (10), (D) une étape de fixation de la couche de résine (10) formée sur le substrat (60), sur le corps métallique magnétique (20), de manière à recouvrir ladite première ouverture (25), (E) une étape de formation d'une pluralité de secondes ouvertures (13) dans une région dans la couche de résine (10) où est située ladite première ouverture (25) du corps métallique magnétique (20), et (F) une étape, suite à l'étape (E), de retrait du substrat (60) de la couche de résine (10).