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1. (WO2018141974) DISPOSITIF
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N° de publication : WO/2018/141974 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/052836
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 05.02.2018
CIB :
H01S 5/02 (2006.01) ,H01S 5/34 (2006.01) ,H01S 5/343 (2006.01) ,H01S 5/183 (2006.01) ,H01S 5/42 (2006.01) ,H01S 5/04 (2006.01) ,H01S 5/042 (2006.01) ,H01S 5/20 (2006.01) ,H01S 5/40 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
5
Lasers à semi-conducteurs
02
Détails ou composants structurels non essentiels au fonctionnement laser
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
5
Lasers à semi-conducteurs
30
Structure ou forme de la région active; Matériaux pour la région active
34
comprenant des structures à puits quantiques ou à superréseaux, p.ex. lasers à puits quantique unique (lasers SQW), lasers à plusieurs puits quantiques (lasers MQW), lasers à hétérostructure de confinement séparée ayant un indice progressif (lasers GRINSCH)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
5
Lasers à semi-conducteurs
30
Structure ou forme de la région active; Matériaux pour la région active
34
comprenant des structures à puits quantiques ou à superréseaux, p.ex. lasers à puits quantique unique (lasers SQW), lasers à plusieurs puits quantiques (lasers MQW), lasers à hétérostructure de confinement séparée ayant un indice progressif (lasers GRINSCH)
343
dans des composés AIIIBV, p.ex. laser AlGaAs
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
5
Lasers à semi-conducteurs
10
Structure ou forme du résonateur optique
18
Lasers à émission de surface (lasers SE)
183
ayant une cavité verticale (lasers VCSE)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
5
Lasers à semi-conducteurs
40
Agencement de plusieurs lasers à semi-conducteurs, non prévu dans les groupes H01S5/02-H01S5/30130
42
Réseaux de lasers à émission de surface
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
5
Lasers à semi-conducteurs
04
Procédés ou appareils pour l'excitation, p.ex. pompage
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
5
Lasers à semi-conducteurs
04
Procédés ou appareils pour l'excitation, p.ex. pompage
042
Excitation électrique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
5
Lasers à semi-conducteurs
20
Structure ou forme du corps semi-conducteur pour guider l'onde optique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
5
Lasers à semi-conducteurs
40
Agencement de plusieurs lasers à semi-conducteurs, non prévu dans les groupes H01S5/02-H01S5/30130
Déposants :
NORWEGIAN UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY (NTNU) [NO/NO]; Sem Saelands Vei 14 7491 Trondheim, NO
Inventeurs :
FIMLAND, Bjorn Ove Myking; NO
WEMAN, Helge; CH
REN, Dingding; NO
Mandataire :
CAMPBELL, Neil; GB
Données relatives à la priorité :
1701829.203.02.2017GB
Titre (EN) LASERS OR LEDS BASED ON NANOWIRES GROWN ON GRAPHENE TYPE SUBSTRATES
(FR) DISPOSITIF
Abrégé :
(EN) A device, such as a light-emitting device, e.g. a laser device, comprising: a plurality of group III-V semiconductor NWs grown on one side of a graphitic substrate, preferably through the holes of an optional hole-patterned mask on said graphitic substrate; a first distributed Bragg reflector or metal mirror positioned substantially parallel to said graphitic substrate and positioned on the opposite side of said graphitic substrate to said NWs; optionally a second distributed Bragg reflector or metal mirror in contact with the top of at least a portion of said NWs; and wherein said NWs comprise ann-type doped region and a p-type doped region and optionally an intrinsic region there between.
(FR) La présente invention concerne un dispositif, tel qu'un dispositif électroluminescent, par exemple un dispositif laser, comprenant : une pluralité de NW semi-conducteurs du groupe III-V mis en croissance sur un côté d'un substrat graphitique, de préférence à travers les trous d'un masque éventuel à trous sur ledit substrat graphitique; un premier réflecteur de Bragg réparti ou un miroir métallique positionné sensiblement parallèlement audit substrat graphitique et positionné sur le côté en regard dudit substrat graphitique vers lesdits NW; éventuellement un second réflecteur de Bragg réparti ou un miroir métallique en contact avec le sommet d'au moins une partie desdits NW; et lesdits NW comprenant une région dopée de type n et une région dopée de type p et éventuellement une région intrinsèque entre elles.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)