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1. (WO2018141713) APPAREIL D'EXPOSITION
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N° de publication : WO/2018/141713 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/052211
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 30.01.2018
CIB :
G03F 9/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
KANEHARA, Junichi; NL
Mandataire :
RAS, Michael; NL
Données relatives à la priorité :
17154551.003.02.2017EP
17169025.802.05.2017EP
17193990.329.09.2017EP
17201092.810.11.2017EP
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION
Abrégé :
(EN) There is provided an exposure apparatus comprising a first substrate holder, a second substrate holder, a sensor holder, a projection system, a measurement device and a further measurement device. The first substrate holder is configured to hold a substrate. The second substrate holder is configured to hold the substrate. The sensor holder is configured to hold a sensor. The projection system is configured to expose the substrate with an exposure beam. The measurement device is configured to provide measurement information of the substrate. The further measurement device is configured to provide further measurement information of the substrate. The sensor is configured to measure a property of the exposure beam and/or the projection system. The projection system is configured to expose the sensor with the exposure beam.
(FR) L'invention concerne un appareil d'exposition comprenant un premier support de substrat, un second support de substrat, un support de capteur, un système de projection, un dispositif de mesure et un autre dispositif de mesure. Le premier support de substrat est configuré pour maintenir un substrat. Le second support de substrat est configuré pour maintenir le substrat. Le support de capteur est configuré pour maintenir un capteur. Le système de projection est configuré pour exposer le substrat à un faisceau d'exposition. Le dispositif de mesure est configuré pour fournir des informations de mesure du substrat. L'autre dispositif de mesure est configuré pour fournir d'autres informations de mesure du substrat. Le capteur est configuré pour mesurer une propriété du faisceau d'exposition et/ou du système de projection. Le système de projection est configuré pour exposer le capteur au faisceau d'exposition.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)