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1. (WO2018141520) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, APPAREIL DE PROJECTION LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
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N° de publication : WO/2018/141520 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/050602
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 11.01.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
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Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
BUTLER, Hans; NL
WIJCKMANS, Maurice, Willem, Jozef, Etiënne; NL
Mandataire :
VERHOEVEN, Johannes; NL
Données relatives à la priorité :
17154328.302.02.2017EP
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS, LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, APPAREIL DE PROJECTION LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a lithographic apparatus, comprising: - a projection system configured to project a patterned radiation beam onto a substrate, comprising optical elements, - a sensor frame, - a first position measurement system configured to measure a position of an optical element relative to the sensor frame, comprising a sensor adapted to monitor an optical element, with a sensor element mounted to the sensor frame, - a sensor frame support supporting the sensor frame on a reference, - a force measurement device adapted to generate force measurement data relating to force exerted on the sensor frame by the sensor frame support, - a position control device adapted to control the relative position of the substrate and the patterned radiation beam wherein the position control device is configured to receive the force measurement data and to control said relative position based on at least the force measurement data.
(FR) La présente invention concerne un appareil lithographique, comprenant : - un système de projection configuré pour projeter un faisceau de rayonnement à motifs sur un substrat, comprenant des éléments optiques, - un cadre de capteur,-un premier système de mesure de position configuré pour mesurer une position d'un élément optique par rapport au cadre de capteur, comprenant un capteur conçu pour surveiller un élément optique, un élément de capteur étant monté sur le cadre de capteur, - un support de cadre de capteur supportant le cadre de capteur sur une référence,-un dispositif de mesure de force conçu pour générer des données de mesure de force concernant une force exercée sur le cadre de capteur par le support de cadre de capteur, - un dispositif de commande de position conçu pour commander la position relative du substrat et du faisceau de rayonnement à motifs, le dispositif de commande de position étant configuré pour recevoir les données de mesure de force et pour commander ladite position relative sur la base d'au moins les données de mesure de force.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)