Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018141505) PROCÉDÉ DE MÉTROLOGIE, APPAREIL ET PROGRAMME INFORMATIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/141505 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/050366
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 08.01.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G01B 11/24 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
B
MESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
11
Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de moyens optiques
24
pour mesurer des contours ou des courbes
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
REHMAN, Samee Ur; NL
Mandataire :
BROEKEN, Petrus; NL
Données relatives à la priorité :
17154425.702.02.2017EP
Titre (EN) METROLOGY METHOD, APPARATUS AND COMPUTER PROGRAM
(FR) PROCÉDÉ DE MÉTROLOGIE, APPAREIL ET PROGRAMME INFORMATIQUE
Abrégé :
(EN) Disclosed is a metrology method and associated metrology apparatus. The method comprises measuring a target formed in at least two layers on a substrate by a lithographic process and capturing at least one corresponding pair of non-zeroth diffraction orders, for example in an image field, to obtain measurement data. A simulation of a measurement of the target as defined in terms of geometric parameters of the target, said geometric parameters comprising one or more variable geometric parameters is performed and the difference between the measurement data and simulation data is minimized, so as to directly reconstruct values for said one or more variable geometric parameters.
(FR) L'invention concerne un procédé de métrologie et un appareil de métrologie associé. Le procédé comprend la mesure d'une cible formée dans au moins deux couches sur un substrat par un procédé lithographique et la capture d'au moins une paire correspondante d'ordres de diffraction non nuls, par exemple dans un champ d'image, pour obtenir des données de mesure. Une simulation d'une mesure de la cible, comme définie en termes de paramètres géométriques de la cible, lesdits paramètres géométriques comprenant un ou plusieurs paramètres géométriques variables, est effectuée et la différence entre les données de mesure et les données de simulation est réduite au minimum, de manière à reconstruire directement des valeurs pour ledit ou lesdits paramètres géométriques variables.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)