Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018140502) REVÊTEMENTS ANTIREFLET POUR MÉTA-SURFACES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/140502 N° de la demande internationale : PCT/US2018/015057
Date de publication : 02.08.2018 Date de dépôt international : 24.01.2018
CIB :
G02B 1/11 (2015.01) ,G02B 1/10 (2015.01) ,G02B 5/18 (2006.01) ,G03F 1/46 (2012.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1
Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
10
Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci
11
Revêtements antiréfléchissants
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1
Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
10
Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
18
Grilles de diffraction
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
38
Masques à caractéristiques supplémentaires, p.ex. marquages pour l'alignement ou les tests, ou couches particulières; Leur préparation
46
Couches antiréfléchissantes
Déposants :
MAGIC LEAP, INC. [US/US]; 7500 W. Sunrise Blvd. Plantation, FL 33322, US
Inventeurs :
LIN, Dianmin; US
KLUG, Michael, Anthony; US
ST. HILAIRE, Pierre; US
MELLI, Mauro; US
PEROZ, Christophe; US
POLIAKOV, Evgeni; US
Mandataire :
ALTMAN, Daniel, E.; US
Données relatives à la priorité :
62/451,58727.01.2017US
Titre (EN) ANTIREFLECTION COATINGS FOR METASURFACES
(FR) REVÊTEMENTS ANTIREFLET POUR MÉTA-SURFACES
Abrégé :
(EN) Antireflection coatings for metasurfaces are described herein. In some embodiments, the metasurface may include a substrate, a plurality of nanostructures thereon, and an antireflection coating disposed over the nanostructures. The antireflection coating may be a transparent polymer, for example a photoresist layer, and may have a refractive index lower than the refractive index of the nanostructures and higher than the refractive index of the overlying medium (e.g., air). Advantageously, the antireflection coatings may reduce or eliminate ghost images in an augmented reality display in which the metasurface is incorporated.
(FR) L'invention concerne des revêtements antireflet destinés à des méta-surfaces. Dans certains modes de réalisation, la méta-surface peut comprendre un substrat sur lequel a été appliquée une pluralité de nanostructures, et un revêtement antireflet disposé sur ces dernières. Le revêtement antireflet peut être un polymère transparent, par exemple une couche de résine photosensible, et peut avoir un indice de réfraction inférieur à l'indice de réfraction des nanostructures et supérieur à l'indice de réfraction du milieu de couverture (par exemple l'air). De manière avantageuse, les revêtements antireflet peuvent réduire ou éliminer des images fantômes dans un affichage à réalité augmentée dans lequel la méta-surface est incorporée.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)