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1. (WO2018140120) SÉPARATION DE MASSE IONIQUE À L'AIDE D'UNE EXTRACTION RF
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N° de publication : WO/2018/140120 N° de la demande internationale : PCT/US2017/061918
Date de publication : 02.08.2018 Date de dépôt international : 16.11.2017
CIB :
H01L 21/67 (2006.01) ,H01J 37/317 (2006.01) ,H01L 21/265 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
317
pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
26
Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires
263
par des radiations d'énergie élevée
265
produisant une implantation d'ions
Déposants :
VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road Gloucester, Massachusetts 01930, US
Inventeurs :
LIKHANSKII, Alexandre; US
Mandataire :
FRAME, Robert C.; US
LEMACK, Kevin S.; US
Données relatives à la priorité :
15/417,76727.01.2017US
Titre (EN) ION MASS SEPARATION USING RF EXTRACTION
(FR) SÉPARATION DE MASSE IONIQUE À L'AIDE D'UNE EXTRACTION RF
Abrégé :
(EN) An apparatus which has the capability of filtering unwanted species from an extracted ion beam without the use of a mass analyzer magnet is disclosed. The apparatus includes an ion source having chamber walls that are biased by an RF voltage. The use of RF extraction causes ions to exit the ion source at different energies, where the energy of each ion species is related to its mass. The extracted ion beam can then be filtered using only electrostatic energy filters to eliminate the unwanted species. The electrostatic energy filter may act as a high pass filter, allowing ions having an energy above a certain threshold to reach the workpiece. Alternatively, the electrostatic energy filter may act as a low pass filter, allowing ions having an energy below a certain threshold to reach the workpiece. In another embodiment, the electrostatic energy filter operates as a bandpass filter.
(FR) L'invention concerne un appareil qui a la capacité de filtrer des espèces indésirables à partir d'un faisceau d'ions extrait sans utiliser d'aimant d'analyseur de masse. L'appareil comprend une source d'ions ayant des parois de chambre qui sont polarisées par une tension RF. L'utilisation d'une extraction RF amène les ions à sortir de la source d'ions à des énergies différentes, l'énergie de chaque espèce d'ions étant associée à sa masse. Le faisceau d'ions extrait peut ensuite être filtré à l'aide uniquement de filtres d'énergie électrostatique pour éliminer les espèces indésirables. Le filtre d'énergie électrostatique peut agir comme un filtre passe-haut, permettant aux ions ayant une énergie au-dessus d'un certain seuil d'atteindre la pièce à usiner. En variante, le filtre d'énergie électrostatique peut agir comme un filtre passe-bas, ce qui permet aux ions ayant une énergie inférieure à un certain seuil d'atteindre la pièce à usiner. Dans un autre mode de réalisation, le filtre d'énergie électrostatique fonctionne comme un filtre passe-bande.
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Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)